首页 期刊 集成电路应用 新型CD-SEM套刻法改进双沟道图形化CDU 【正文】

新型CD-SEM套刻法改进双沟道图形化CDU

作者:Ilan; Englard; Rich; Piech; Liraz; Gershtein; Ram; Peltinov; Ofer; Adan Applied; Materials; Inc; Santa; Clara; Caof; www; appliedmaterials.com
双沟道   cdu   图形化   套刻   控制策略  

摘要:采用一种沟道内置沟道的套刻标记和自动工艺控制策略,双沟道图形化相关的CD均匀性问题可保持在具有量产价值的范围内。

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