首页 期刊 集成电路应用 投资巨大技术受限45纳米恐成半导体极限 【正文】

投资巨大技术受限45纳米恐成半导体极限

美元   预计   厂商   投资   晶圆厂  

摘要:不少厂商预计,将于2007年在45纳米采用193nm沉浸式微影工具。但这些厂商却忘记了需要解决一个更重要的问题。那就是有没有一家芯片制造商能够负担得起这样昂贵的应用?据估计,每套沉浸式微影工具预计售价将达2,000万~3,000万美元,或者会更高;而波音737商用飞机目前每架的售价也才只有2,300万美元!此外,建造下一代晶圆代工厂及部署相应工艺技术的成本预计也将会是个天文数字,例如建造一家采用45纳米技术的最新12时晶圆厂的费用将达30亿~35亿美元。

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