作者:尚正国; 李东玲; 佘引; 陈宇昕 期刊:《实验科学与技术》 2020年第01期
采用脉冲直流反应磁控溅射的方式在硅衬底上制备钼(Mo)电极。通过分析单一变量(如工艺真空度、气体流量等工艺参数)对Mo电极性能的影响,结合相关性实验设计规则,探究影响Mo电极性能的关键因素,优化Mo电极制备工艺,对Mo电极薄膜的性能进行表征。实验结果表明:该实验过程简单直观、效率高,能使学生对半导体加工工艺的实验设计及工艺调控有直观体验,可满足微电子及仪器科学与技术等专业实验课程需要。同时,实验成果也可直接应用于微机...
作者:张丽俊; 田武; 常勇强; 任伟宁; 张长军; 鲍明东 期刊:《真空科学与技术学报》 2019年第12期
磁控溅射技术制备有望作为电接触材料的Cu-Ag薄膜的工艺探索。利用方块电阻仪测试薄膜电阻,借助白光干涉仪和扫描电镜分析不同电流和不同偏压下粗糙度、薄膜厚度、Ag含量及微观结构对薄膜电阻影响规律。结果表明:不同银靶溅射电流下,Ag含量及微观结构为影响薄膜面电阻的主要因素,Ag含量低于18.13%(原子比)时膜中Cu-Ag固溶体相占比增大,这可能是引起薄膜面电阻增大的主要原因,柱状晶的贯穿程度越高电阻越小。不同偏压下,薄膜致密性...
作者:黄美林; 任永聪; 梁竞鹏; 王晓如; 林雪莹; 鲁圣国 期刊:《真空科学与技术学报》 2019年第11期
本文利用直流磁控溅射法在丙纶无纺布基底沉积铜、不锈钢及氧化铜薄膜,研究了本底真空度、工作气体流量、溅射功率、工作气压等溅射工艺参数对薄膜沉积速率、薄膜厚度和表面形貌的影响规律,测试了镀膜前后样品的抗紫外和抗红外性能。结果表明,一定范围内的本底真空度的变化对成膜性能影响很小;存在一个比较合适的氩气流量大小和工作气体压强范围,使得沉积速率最大;沉积速率与溅射功率成正相关关系。经测试,镀铜膜后的织物抗紫外性...
作者:罗学萍; 赖奇 期刊:《钢铁钒钛》 2019年第06期
采用直流反应磁控溅射法,通过改变溅射时间在不锈钢表面溅射氮化钛薄膜。采用分析天平、SEM、XRD和显微硬度计等对薄膜的质量增加率、微观结构、外观形貌和显微硬度进行研究。结果发现随着溅射时间增加,薄膜的质量增大,厚度逐渐增加。XRD分析表明,TiN薄膜晶体结构为面心立方结构。溅射沉积氮化钛膜具有择优取向性:随溅射时间增加,由混合晶面生长向(111)择优取向变化;随着溅射时间增加,显微硬度总体呈上升的趋势。
作者:刘壮; 孙智慧; 马新欣; 林晶 期刊:《数字印刷》 2010年第S1期
氧化硅薄膜因其优异的阻隔、电学、光学以及环境友好性能而广泛应用于各种工业场合。可以在多种衬底上制备硅氧化物,常见的如硅、玻璃和聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。然而,目前所见报端的文献很少有以纸张为基材的。本文即研究在纸张表面射频磁控溅射沉积氧化硅薄膜,讨论沉积氧化硅薄膜射频功率密度、沉积时间等工艺参数对沉积速率,薄膜表面粗糙度、薄膜机械性能、薄膜的阻隔性能的影响。利用原子力显微镜(AFM)观察薄膜的表面形貌,...
作者:杨恢东; 夏锦辉; 彭斯冉; 张婧妍; 鲍飞雄; 刘雅晴 期刊:《光子学报》 2019年第12期
采用直流反应磁控溅射法在氧化铟锡(ITO)玻璃上溅射一层掺氧含量为30%的氧化钨薄膜(WOx),并在此基础上溅射了掺氧含量不同的氧化钽薄膜(TaOx).利用X射线衍射仪以及能谱仪对氧化钽薄膜的物相结构以及元素的相对变化量进行了分析,使用扫描电子显微分析了薄膜的表面形貌,采用紫外分光光度计与电化学工作站配合测量薄膜的透射率,对薄膜的电致变色性能进行了研究.结果表明:所溅射的氧化钽薄膜均为非晶态结构,随着掺氧含量的增加,薄膜氧...
作者:蔡立辉; 张涛; 方前锋; 杨俊峰 期刊:《科技资讯》 2019年第31期
利用直流反应磁控溅射技术,在不锈钢和硅衬底上分别制备了三元MoCN、MoSiN、MoAlN、MoWN、WTaN及四元MoAlSiN、MoSiCN、WSiCN涂层。利用XRD、XPS、TEM、SEM等方法分析了薄膜的微观结构和表面形貌;利用纳米压痕仪、划痕仪、摩擦磨损测试仪、以及热重分析法测试了薄膜的硬度、膜基结合力、摩擦系数、及抗氧化温度。结果表明四元MoSiCN、WSiCN涂层具有更加优异的综合性能,可望向工业领域转化。
作者:刘阳; 高立华 期刊:《洛阳师范学院学报》 2019年第11期
采用单靶与双靶磁控共溅射技术,在非晶态石英玻璃基底上分别沉积生长了MoS 2薄膜及MoS 2/C复合薄膜.利用X射线衍射、拉曼光谱检测技术对MoS 2薄膜和MoS 2/C复合薄膜材料的结构进行表征,探讨了退火处理前后薄膜结构的变化.结果表明,通过脉冲和射频双靶共溅射制备的MoS 2/C复合薄膜,碳原子对二硫化钼的空隙进行了填充,经过400℃真空退火20分钟,获得了结晶度较好的MoS 2/C复合薄膜材料.
作者:裴娟; 张芹; 原所佳; 孙振翠; 刘栋 期刊:《山东交通学院学报》 2019年第04期
利用磁控溅射技术在氩氢混合气氛以及纯氩(Ar)气氛中分别制备(FeCo)xGe1-x-H和(FeCo)xGe1-x磁性半导体薄膜。对于2种磁性半导体薄膜,采用X射线衍射仪测量表明,加氢对(FeCo)xGe1-x-H的非晶结构没有影响;红外光谱测量结果显示,与氢钝化Si的悬挂键不同,氢没有钝化Ge的悬挂键;X光电子能谱测量结果表明,(FeCo)0.70Ge0.30-H和(FeCo)0.70Ge0.30薄膜中的(FeCo)与Ge的相对原子比值与样品制备时设定的比值一致,(FeCo)0.70Ge0.30-H薄膜中Fe、C...
作者:周泉; 丁泽良; 王易; 张海波; 吴发展 期刊:《包装学报》 2019年第06期
采用磁控溅射技术在Ti6Al4V钛合金表面制备了Ta2O5/Ta2O5-Ti/Ti多层涂层;利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和X射线光电子能谱仪(XPS),分析了涂层的微观结构、物性组成和化学价态;通过划痕仪、纳米压痕仪、摩擦磨损试验机和电化学工作站,检测了涂层的结合强度、力学性能、摩擦系数和耐腐蚀性。研究结果表明,Ta2O5/Ta2O5-Ti/Ti多层涂层表面由峰型颗粒组成,粒径大小均匀,涂层结构致密。与Ti6Al4V相比,Ta2O5/Ta2O5-Ti/Ti多层...
作者:胡小刚; 董闯; 杨红艳; 张瑞谦 期刊:《电镀与涂饰》 2019年第21期
采用自主研发的大弧源技术,复合中频磁控溅射石墨靶,避免H元素的引入,在锆合金表面快速沉积了致密、超厚(约20μm)的Ti-Al-C涂层.经过不同温度(550、650、750和850℃)和时间(1、2和3 h)的真空退火后发现,至少在650℃才能获得Ti2AlC结构,更高的温度会加速Ti2AlC的生成.高温沉积对制备Ti2AlC相涂层而言是必备的.
作者:吴勇民; 田文生; 周罗增; 瞿轶; 汤卫平 期刊:《电源技术》 2020年第01期
研究了全固态薄膜锂电池制备方法、电化学性能和失效机制。采用磁控溅射和真空蒸镀法制备出了容量为0.2、1.7和3.6 mAh的全固态薄膜锂电池。正极厚度为2滋m时,由于正极结构均匀、结构合理,电池可以在室温1℃下循环500次,容量保持率为96.02%;10℃下充放电循环稳定。由于正极扩散系数相对较低,正极膜厚度或尺寸增加会显著降低电池容量发挥率。全固态薄膜锂电池循环后正极基本保持稳定,但负极结构会粉化,正极/固态电解质固相界面存在...
作者:汪国军; 白煜; 胡少杰; 张敏; 王书蓓; 万飞 期刊:《材料导报》 2019年第S02期
铂(Pt)是温度传感器常见的敏感材料。为了改善退火工艺提高Pt薄膜的电学特性,采用射频磁控溅射法在蓝宝石衬底上制备了以钽(Ta)为粘附层的Pt敏感薄膜,研究了不同退火温度、退火气氛和退火时间下的Pt薄膜结构以及电学性能方面的差异。结果表明:退火增强了薄膜的结晶化且使晶粒发生长大,从而有效降低了薄膜的电阻率。但过度退火,如退火温度超过1000℃或过长的退火时间,会导致粘附层中的Ta元素向Pt薄膜中过度扩散,从而增加Pt薄膜的电...
作者:蒋春霞; 李荣斌; 王馨; 聂朝阳; 居健 期刊:《表面技术》 2019年第10期
目的提高铜互连扩散阻挡层的失效温度。方法采用磁控溅射方法制备了不同氮气流量下的Cu/AlCrTaTiZrNx/Si高熵合金薄膜体系,使用真空退火炉对Cu/AlCrTaTiZrNx/Si高熵合金薄膜体系分别进行600、700、800、900℃的真空退火,并利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)以及透射电子显微镜(TEM)等表征手段对薄膜的组织结构、三维形貌等进行表征。结果不通入氮气时,高熵合金薄膜为非晶状态。随着氮气流量的增加,薄...
作者:谈淑咏; 刘晓东; 霍文燚; 方峰; 杜兴; 皮锦红; 王章忠 期刊:《表面技术》 2019年第10期
目的研究溅射功率对CoCrFeNi高熵合金薄膜硬度和电阻率的影响,期望获得同时具有高硬度和高电阻率的高熵合金薄膜,为其在电阻薄膜领域的应用提供实验基础。方法在不同溅射功率条件下(40、60、80、100 W),利用CoCr合金靶、Ni片和Fe片拼接成合金靶,采用磁控溅射法在硅基底表面沉积CoCrFeNi高熵合金薄膜。利用XRD分析薄膜相结构,通过SEM分析薄膜成分和形貌,利用显微硬度计测量薄膜硬度,采用双电测四点探针法测定薄膜电阻率。结果不同溅...
作者:曾波; 范洪远; 常鸿; 王均 期刊:《表面技术》 2019年第11期
锆因其极低的中子吸收截面、较高的熔点和优良的耐腐蚀性等特点,在核技术领域得到大量应用,主要作为核燃料的包壳材料。2011年日本福岛核事故后,事故容错燃料(ATF)的开发成为研究热点,尤其着重提高包壳材料的抗高温氧化性,而在锆合金表面制备涂层是提高该能力的重要途径之一。评述了锆合金包壳表面涂层的种类、性能、制备方法及各种方法的特点与发展。指出激光熔覆、等离子喷涂和冷喷涂都有沉积速率快、涂层厚的特点,但涂层过厚将...
作者:黄灿; 杜翠薇; 代春朵; 马政; 刘智勇; 李晓刚 期刊:《表面技术》 2019年第11期
高熵合金涂层表现出比传统涂层更优良的综合性能,具有深入的研究价值。概述了近年来有关高熵合金涂层的研究进展,首先总结了高熵合金涂层的制备工艺(磁控溅射技术、热喷涂技术和激光熔覆技术等),分析了各制备工艺的优缺点,而后进一步分析研究者们如何通过元素、微观结构和制备工艺等方面优化高熵合金涂层性能。此外,就高熵合金涂层在工业上的应用前景和研究方向进行展望。
作者:李洪; 崔骏; 林松盛; 石倩; 蔡畅; 韦春贝; 黄裕坤 期刊:《表面技术》 2019年第12期
目的利用真空镀膜技术对铁氧体电磁感芯表面进行金属化处理,对金属薄膜的结构及性能进行综合分析,为其实现工程应用提供一定的理论基础。方法采用多腔一体式磁控溅射设备在铁氧体磁体表面依次沉积Cr、Ni、Ag,作为铁氧体表面复合金属薄膜。采用扫描电镜对复合薄膜表面、截面形貌进行表征;利用原子力显微镜对复合薄膜表面粗糙度进行测量;利用划格法对复合薄膜附着力进行测试;利用冲压试验对复合薄膜剥离强度进行测试;利用拉伸试验对...
作者:杨腾龙; 沈云; 代骥; 郑国强; 王成爱; 叶迎华; 沈瑞琪 期刊:《含能材料》 2019年第10期
为了提高Ni-Cr薄膜发火件的安全性和点火能力,使用磁控溅射技术将Al/CuO含能薄膜与Ni-Cr薄膜发火件复合,制备了一种新型的Ni-Cr@Al/CuO钝感含能元件。该Ni-Cr@Al/CuO钝感含能元件既可以用作换能元,又可以作为最简单的电点火元件,从而简化点传火序列,适应弹药微型化的发展需求。测试其1A1W5min安全性、电发火感度和点火能力。结果表明,Ni-Cr@Al/CuO钝感含能元件满足1A1W5min安全性要求;50ms临界发火电流为3.08A,最小全发火电流为3.1...
本文主要介绍了柔性镀膜材料的制备方法、应用发展状况以及柔性镀膜材料在柔性电路板行业的应用和发展趋势,重点阐述了采用真空磁控溅射工艺制取高性能柔性电路板材料的研发和制备过程。