首页 期刊 真空科学与技术学报 磁控溅射工艺对沉积丙纶无纺布基底金属薄膜的影响 【正文】

磁控溅射工艺对沉积丙纶无纺布基底金属薄膜的影响

作者:黄美林; 任永聪; 梁竞鹏; 王晓如; 林雪莹; 鲁圣国 五邑大学纺织材料与工程学院; 广东省功能性纤维与纺织品工程技术研究中心; 江门529020; 广东工业大学材料与能源学院; 广东省智能材料与能量转化器件工程技术研究开发中心; 广东省功能软凝聚态物质重点实验室; 广州510006
磁控溅射   薄膜   金属膜   织物镀膜   抗紫外  

摘要:本文利用直流磁控溅射法在丙纶无纺布基底沉积铜、不锈钢及氧化铜薄膜,研究了本底真空度、工作气体流量、溅射功率、工作气压等溅射工艺参数对薄膜沉积速率、薄膜厚度和表面形貌的影响规律,测试了镀膜前后样品的抗紫外和抗红外性能。结果表明,一定范围内的本底真空度的变化对成膜性能影响很小;存在一个比较合适的氩气流量大小和工作气体压强范围,使得沉积速率最大;沉积速率与溅射功率成正相关关系。经测试,镀铜膜后的织物抗紫外性能明显提高。

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