首页 期刊 机械工程材料 化学气相沉积法制备硅质量分数6.5%硅钢的脆性 【正文】

化学气相沉积法制备硅质量分数6.5%硅钢的脆性

作者:高超 苏芳臣 相颖杰 孙权 陈建钧 华东理工大学机械与动力工程学院 上海200237
cvd法   硅钢   脆性   晶界氧化  

摘要:采用化学气相沉积(CVD)法制备了硅质量分数为6.5%的硅钢,利用扫描电镜、能谱仪和自主设计研发的三点压弯机研究了反应温度、气氛含氧量和SiCl_4含量对硅钢脆性的影响。结果表明:硅钢的晶粒尺寸随反应温度的升高而长大,硅钢的脆性随着晶粒尺寸的增加而增大;气氛含氧量在100mg·kg~(-1)时所制备的硅钢产生了晶界氧化现象,使硅钢脆性增加;SiCl_4含量较大时(体积分数35%)所制备的硅钢产生了Kirkendall空洞,导致其脆性加剧。

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