首页 期刊 科技管理研究 基于创新型企业与模仿型企业协调发展的知识产权保护强度分析 【正文】

基于创新型企业与模仿型企业协调发展的知识产权保护强度分析

作者:张秀峰; 聂鸣 华中科技大学; 湖北武汉430074
外溢效应   自主创新   技术进步率  

摘要:外溢效应的存在使得创新型企业的部分技术创新成果被模仿型企业所模仿,这在一定程度上影响了创新型企业的积极性,因此需要利用知识产权制度对创新成果加以保护,但过高的保护强度又不利于模仿型企业的技术进步,因此必须设定合适的知识产权保护强度,以促进创新型企业与模仿型企业的协调发展。

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

学术咨询 免费咨询 杂志订阅