摘要：在半导体制造领域中，IC装备工艺腔室流场的均匀性决定镀膜的质量。本文运用二维激光多普勒测速仪（LDV）对真空腔室进行内流场测量，研究了在不同进气量、不同腔室压强下，腔室各平面流速的分布规律。研究表明，粒子浓度和背景噪声是影响腔室流速测量的两大关键因素，采用四种方法有效地降低了背景噪声对信号的干扰；通过大量实验得出了LDV有效测量腔室流速的压力范围，以及腔室压强、进气量与流速之间的关系；验证了腔室内二级匀气装置具有均匀布气的功能。研究结果能为IC装备的设计提供数据支持。

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