首页 期刊 物理学报 金属有机物化学气相沉积生长的a(1120)面GaN三角坑缺陷的消除研究 【正文】

金属有机物化学气相沉积生长的a(1120)面GaN三角坑缺陷的消除研究

作者:许晟瑞 张进城 李志明 周小伟 许志豪 赵广才 朱庆伟 张金凤 毛维 郝跃 西安电子科技大学微电子学院 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 西安710071
gan   原子力显微镜   高分辨x射线衍射仪   非极性  

摘要:用金属有机物化学气相沉积方法在,面蓝宝石上生长了非极性α面GaN薄膜,通过采用AlGaN多量子阱插入层,得到了高质量的非极性GaN材料.用原子力显微镜和高分辨X射线衍射仪研究了。面GaN的表面形貌和结晶质量,发现非极性材料上典型的三角坑缺陷被消除,(1120)面X射线双晶摇摆曲线的半峰宽为680″.

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