首页 期刊 物理学报 不同氮源制备CNx纳米管薄膜及其低场致电子发射性能 【正文】

不同氮源制备CNx纳米管薄膜及其低场致电子发射性能

作者:丁佩; 晁明举; 梁二军; 郭新勇 郑州航空工业管理学院应用科学系; 郑州; 450015; 郑州大学物理工程学院; 材料物理教育部重点实验室; 郑州; 450052; 郑州大学物理工程学院; 材料物理教育部重点实验室; 郑州; 450052; 河南大学特种功能材料实验室; 开封; 475001
cnx纳米管   高温热解   场致发射  

摘要:采用高温热解法,分别以氯化铵(NH4Cl)和乙二胺(C2H8N2)为氮源在洁净的硅片上沉积生长CNx纳米管薄膜.利用扫描电子显微镜、高分辨率透射电子显微镜和拉曼光谱对CNx纳米管进行形貌观察和表征.结果显示不同氮源制备出的CNx纳米管薄膜的洁净度、有序度以及纳米管的结构明显不同.热解乙二胺(C2H8N2)/二茂铁(C10H10Fe)制备出的结晶度较低的'竹节状'结构CNx纳米管平行基底表面有序生长,而且低场致电子发射性能优越,开启电场1.0V/μm,外加电场达到2.89V/μm时发射电流密度为860μA/cm2.

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