摘要:介绍了通过使用原子力显微镜,在H钝化Si(100)的表面局部阳极氧化反应的表面氧化图案上刻写的纳米级Si结构加工.这种氧化图形可被用作Si的可选择性蚀刻工艺的掩膜.带有临界特性的小到30 nm的边门Si场效应晶体管也通过这种方法加工.
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