摘要：为实现在聚酰亚胺薄膜上制备连续面形的微透镜结构，开发了一种薄膜光刻刻蚀的工艺方法．首先利用移动掩模曝光得到连续面形的光刻胶微浮雕结构，再通过反应离子刻蚀技术将微结构高保真度、低粗糙度地转移到PI薄膜上．为解决刻蚀过程中最关键的等比刻蚀问题，分别研究了刻蚀气体组分的优选、气体组分配比和气体流量的优化等对等比刻蚀的影响．实验结果表明：在一定的刻蚀条件（如射频功率、腔室压强和自偏压）下，O2＋SF6的混合工作气体中，O2为一定值，随着SF6占的比例增加至13．04％，总流量为46sccm的优化值时，实现了刻蚀速率和刻蚀比分别为136nm／min和1：1．02，刻蚀误差仅为2．3％的较好各向异性刻蚀．通过实验室搭建的焦距测试系统，证明了该方法在PI薄膜上制备的微透镜阵列与石英上具有相同的光学特性．

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