摘要：利用电子束蒸发在硅基底材料上沉积氟化镱（YbF 3）薄膜,并对不同沉积温度所得薄膜进行了研究。研究结果表明,在反可见透红外波段上,沉积温度对于YbF 3薄膜的物理和光学特性有较大影响。当沉积温度为150 ℃和180 ℃时,硅基底上的YbF 3薄膜的光学性能和可靠性较差;当沉积温度为220 ℃和240 ℃时,硅基底上的YbF 3薄膜具有良好的光学性能和可靠性,能适用于不同要求的薄膜产品研制。

注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社