首页 期刊 光学学报 基于软光刻的多层光互连垂直耦合结构 【正文】

基于软光刻的多层光互连垂直耦合结构

作者:刘彦婷; 倪玮; 吴兴坤 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室; 浙江杭州; 310027
导波光学   垂直耦合光互连   软光刻   光线追迹  

摘要:设计并试制了一种新型垂直耦合光互连线路结构,可用于高速计算机内部等垂直堆叠的多层连通光互连的芯片问光信息通讯。其结构简单,且具有较小的连接损耗(可低至0.05dB)。对四种不同的典型波导截面(分别为30μm×30μm,50μm×50μm,100μm×100μm,200μm×200μm),利用蒙特卡罗多光线追迹分析法对跨越l~6层的垂直耦合结构进行了性能分析,发现当该结构的跨越高度与横向跨越距离的比值约为0.128时,可实现较理想的低损耗(低于1dB)光传输。采用软光刻的方法制备了实验多层光互连线路,其性能测试与理论结果基本相符。

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

学术咨询 免费咨询 杂志订阅