摘要：离子注入制程已成为器件设计的最前端工作．现在更被视为实现32nm和22nm晶体管制程的推动要素。器件漏电流、浅结面制作，器件尺寸缩小，以及急速增加成本的挑战，正在限制摩尔定律的延伸。针对32nm节点离子注入制程器件的工艺要求．介绍了离子注入设备的发展方向。
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
热门期刊服务
影响因子：0.19
期刊级别：部级期刊
发行周期：双月刊
期刊在线咨询，1-3天快速下单！
查看更多>
超1000杂志，价格优惠，正版保障！
一站式期刊推荐服务，客服一对一跟踪服务！
