杂志简介：《真空科学与技术学报》杂志经新闻出版总署批准，自1981年创刊，国内刊号为11-5177/TB，是一本综合性较强的工业期刊。该刊是一份月刊，致力于发表工业领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目：综述评述、研究快报、研究论文
杂志简介：《真空科学与技术学报》杂志经新闻出版总署批准，自1981年创刊，国内刊号为11-5177/TB，是一本综合性较强的工业期刊。该刊是一份月刊，致力于发表工业领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目：综述评述、研究快报、研究论文
作者：张军; 马建春; 武国兴 刊期：2017年第03期
根据微磁学模拟理论,设置交换耦合双层膜中的Sm-Co硬磁层和α-Fe软磁层薄膜总厚度各自保持不变,通过改变结构来研究其对磁化反转过程和磁性能的影响。结果表明,从双层膜变化到三层膜的过程中,不同的结构具有不同的磁性能和磁化反转过程;当结构优化为Sm-Co（10 nm）/α-Fe（5 nm）/Sm-Co（10 nm）三层膜时,最大磁能积和矫顽力达到最大值,分别为1.4×...
作者：程敏; 艾力·伊沙木丁; 孙正文; 马路; 赵斐; 许竞 刊期：2017年第03期
针对1.2 m口径天文望远镜非球面主反射镜的镀膜问题,建立了大口径非球面镀膜的膜厚分布模型,使用数值分析的方法计算了非球面镀膜相对于球面镀膜的膜厚分布差异。针对非球面镀膜的膜厚均匀性问题,给出了非球面修正挡板的设计方法。为减少修正挡板的加工成本,提高修正挡板的结构刚度,研究了球面面型挡板用于非球面镀膜的可行性,提出了一种圆周分...
作者：辛荣生; 林钰; 董林; 苏雷生 刊期：2017年第03期
采用三靶磁控共溅射法在玻璃衬底上制备了Nb掺杂TiO2透明导电薄膜。研究了在不同氧含量时薄膜的结构和光电性能。实验结果表明：氧含量的变化能改变Nb掺杂TiO2薄膜晶体的晶粒尺寸、表面形貌、透光率和电阻率,当溅射氩气中通入2%氧气时,可得到性能最佳的锐钛矿相Nb掺杂TiO2薄膜,所得薄膜可见光透过率高达80%,电阻率降至2.5×10^-3Ωcm。并且,Nb掺杂...
作者：王俊亭; 沙宏磊; 于溯源 刊期：2017年第03期
为了研究径向磁轴承磁力、磁力矩刚度系数随转子位置、控制电流的变化规律及耦合关系,由磁力线与硅钢片垂直几何关系建立了12磁极径向磁轴承磁力、磁力矩模型,对转子位置变量、控制电流求导得到磁力、磁力矩动态刚度系数。计算结果表明：转子在一端磁轴承的位置移动后,会降低其在另一端磁轴承的稳定性。随转子位置变化,动态刚度系数变化较大,当...
作者：李新连; 于涛; 张传升; 宋斌斌; 赵树利; 郭凯; 左宁; 陈颉 刊期：2017年第03期
分别用磁控溅射法和共蒸法沉积了Mo和CIGS薄膜。考察了气压和CIGS高温沉积环境对Mo薄膜的影响,研究了Mo基底对CIGS结构和形貌的影响,给出了不同Mo基底上制备的电池效率。结果显示,Mo薄膜具有较强的（110）晶面择优取向,低气压沉积的薄膜结构致密,而高气压沉积的薄膜疏松多孔隙。经CIGS高温工艺后,Mo薄膜晶粒融合,形貌特征消失,其中0.1 Pa沉积的M...
作者：代凯; 王传新; 范咏志; 易成 刊期：2017年第03期
提高生长速率是降低金刚石薄膜应用成本的关键因素之一,目前研究的提高速率的方法中以偏压电子增强为主,而该方法不适宜表面复杂的刀具涂层。本文通过在无偏压热丝化学气相沉积沉积金刚石薄膜条件下添加少量的Ar,成功将生长速率提高3倍,并采用等离子发射光谱研究了其反应机制,尤其对反应系统电子温度的变化做出了详细推理分析。实验结果采用扫描...
作者：曾杰; 时家明; 刘洋; 李志刚 刊期：2017年第03期
等离子体对电磁波会产生反射,利用矢量网络分析仪设计了微波反射测试系统,研究了电磁波正入射等离子体阵列时,电磁波极化方向、电子密度、柱间距等因素对电磁波反射的影响。结果表明本文设计的等离子体阵列与电磁波相互作用时,对2-9 GHz电磁波反射效果较为明显,对9-18 GHz电磁波衰减效果较为明显,对TM波的反射大于TE波,同时增大等离子体电子密度...
作者：杨亚奇; 李卫国; 袁创业; 夏喻; 陈艳 刊期：2017年第03期
为研究低气压下棒-板长间隙工频放电等离子体通道发展过程及外部特征,本研究提出利用自行研制的以聚丙烯为主体的低气压放电腔进行工频放电试验,并分析了800 mm棒-板间隙在100 Pa,200 Pa,500 Pa,1 kPa,2 kPa,4 kPa六个气压值下的等离子体通道发展过程及其外部特征。研究结果表明：电子自由行程变化对棒-板电极工频放电等离子体通道发展过程及外...
作者：范惠泽; 刘凯; 黄永清; 蔡世伟; 任晓敏; 段晓峰; 王琦; 刘昊; 吴瑶; 费嘉瑞 刊期：2017年第03期
自1970年,元件制造首先采用感应耦合等离子体（ICP）刻蚀技术后,至今30多年,它的发展与集成电路和光电子器件发展密不可分,很大程度上,干法刻蚀的水平决定了整个产业的水平和规模。在本文中,本课题组使用ICP刻蚀技术刻蚀GaAs材料,在Cl2/Ar/O2环境下,研究控制刻蚀气流组成成分,刻蚀气流总速率等不同的刻蚀条件对于GaAs材料刻蚀速率的影响。实验表...
作者：陈俊霖; 徐浩军; 魏小龙 刊期：2017年第03期
设计了一种雷达舱共形的电感耦合等离子体（ICP）发生装置,开展了ICP放电的流体模型研究,获得在高低气压及不同放电功率对ICP的电子密度分布的影响,据此得出与电磁散射相关的介电常数空间分布,在此基础上利用Z变换时域有限差分方法建立了电磁波在ICP中的传播模型,得出了在不同放电条件下ICP对电磁波的宽频段散射参量。同时开展实验,对该模型的结...
作者：胡宽辉; 沈兴全; 吴竹兵 刊期：2017年第03期
爪型干式真空泵的密封问题是设备故障中最常见的问题,其密封性能好坏直接决定泵能否正常工作。现有的爪型干式真空泵中轴端密封基本上都是采用机械密封、骨架密封或活塞环复合密封,这些密封都属于接触式密封,密封件容易损坏,需要频繁更换密封件。针对这类问题,提出了将迷宫密封装置应用在爪型干式真空泵轴端密封上,通过与原有的密封装置进行对比...
作者：宁方伟; 龙威; 裴浩; 杨绍华 刊期：2017年第03期
以气膜分层理论为基础,根据近壁层、稀薄层、连续流层内分子运动形式,结合层内黏度的变化特征,建立壁面滑移模型,并给出相应的数学表达式。通过LAMMPS和2DMD数值分析的方法,结合实验测试结果发现：在稀薄层内,沿竖直方向的速度呈线性变化,越靠近壁面,速度越小;在近壁层内,由于分子与壁面的摩擦使得近壁层分子速度骤减;在连续流层内,气体分子做全...
作者：王虎军; 李德才; 何新智 刊期：2017年第03期
为了探索在液体环境下磁流体密封的可行性,本文就水压对磁流体密封寿命的影响进行了研究。理论上推导出由水压引起的两种液体界面圆弧圆心角与界面处剪切力之间关系的解析表达式,设计、安装了密封液体用直立式磁流体密封试验台。在试验台上试验了三种水压下的磁流体密封寿命。理论和试验表明,密封寿命随水压升高而下降。水压为0.15MPa时的密封寿...
作者：李灿; 丁兰; 鲍明东; 刘小萍; 徐雪波 刊期：2017年第03期
纯Cr2O3和含10%金刚石微粒的两种Cr2O3喷涂层与Si3N4陶瓷球组成摩擦副,用摩擦磨损试验机进行不同载荷下的摩擦磨损实验。用型号为Hitachi-4800的扫描电镜和Micro XAM-100白光干涉仪分析两对摩擦副在不同载荷下的磨损形貌。结果表明,添加10%金刚石微粒的Cr2O3喷涂层的表面硬度和截面硬度均比纯Cr2O3涂层的高;随着载荷的增加,两种喷涂层的摩擦系数...
作者：刘星; 张伟; 孙刚; 马国佳 刊期：2017年第03期
采用飞秒超快激光在GCr15轴承钢基体表面上制备了条纹、方格结构,并研究对类金刚石（DLC）薄膜结构、结合强度和耐磨性能影响。利用Raman光谱、扫描电镜、白光干涉形貌仪分析薄膜化学结构及形貌,利用划痕实验仪及SRV磨损试验机对薄膜结合强度、磨损性能进行测定。研究表明,功率密度0.96、400 mm/min、加工间距150-350μm条件下的获得的微结构对DL...
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