真空科学与技术学报

真空科学与技术学报杂志 北大期刊 CSCD期刊 统计源期刊

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology

杂志简介:《真空科学与技术学报》杂志经新闻出版总署批准,自1981年创刊,国内刊号为11-5177/TB,是一本综合性较强的工业期刊。该刊是一份月刊,致力于发表工业领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目:综述评述、研究快报、研究论文

主管单位:中国科学技术协会
主办单位:中国真空学会
国际刊号:1672-7126
国内刊号:11-5177/TB
全年订价:¥ 700.00
创刊时间:1981
所属类别:工业类
发行周期:月刊
发行地区:北京
出版语言:中文
预计审稿时间:1-3个月
综合影响因子:0.53
复合影响因子:0.43
总发文量:2514
总被引量:9677
H指数:21
引用半衰期:4.2318
立即指数:0.0045
期刊他引率:0.4178
平均引文率:15.5495
  • 阳极氧化电流密度和时间对多孔硅形貌和电子发射特性的影响

    作者:张玉娟 张小宁 王文江 刘纯亮 刊期:2012年第10期

    为了应用于场发射显示器,采用电化学阳极氧化,快速热氧化和磁控溅射等方法制备出了金属/多孔硅/硅基底/金属结构的多孔硅电子发射体,并运用扫描电子显微镜观察了多孔硅的微观形貌,结果发现多孔硅的孔径随着电化学阳极氧化电流密度的增加而增加,多孔硅层的厚度随着阳极氧化电流密度和时间乘积的增加而增加。在真空系统中测量了多孔硅的电...

  • 工艺参数对Ar+改性无氧铜表面形貌及二次电子发射的影响

    作者:刘腊梅 赵世柯 刊期:2012年第10期

    为了降低材料的二次电子发射系数,本文对高导电无氧铜(OFHC,简称无氧铜)进行离子束表面改性处理,并研究其最优工艺条件,重点考查了温度、时间等工艺参数对表面形貌以及二次电子发射系数(δ)的影响。利用扫描电镜、能谱仪等对表面形貌及成分进行分析并在此基础上对改性后样品的表面形貌形成机理进行了初步探讨。实验得出最佳工艺为:在600...

  • 速调管双耦合口输出回路间隙阻抗频率特性的计算

    作者:葛萌 王勇 刊期:2012年第10期

    采用等效电路理论,建立了双耦合口输出腔间隙阻抗频率特性的冷测模拟计算方法。运用该方法,并借助CST-MWS三维电磁场计算软件,计算分析了某S波段单间隙双耦合口输出腔的间隙阻抗频率特性。结果显示,本方法与采用场分析法及散射曲线法得到的结果符合良好。

  • TC4钛合金表面电弧离子镀TiN/CrN纳米多层薄膜研究

    作者:胡霖 胡建军 林国强 张林 孙刚 马国佳 刊期:2012年第10期

    用电弧离子镀技术在TCA钛合金基体上通过改变偏压制备了4组TiN/CrN薄膜,对薄膜的表面形貌、厚度、相结构、硬度、膜基结合力和摩擦系数等组织、性能进行了测试表征。结果表明,薄膜是由TiN相和CrN交替叠加构成的纳米多层薄膜,薄膜的调制周期为60nm,总的厚度约为480nm。与基体钛合金相比,镀膜后样品的表面性能与偏压幅值密切相关并有显著提...

  • MAO层厚度对MAO/DLC复合膜层力学性能与摩擦学特性的影响

    作者:杨巍 汪爱英 蒋百灵 柯培玲 刊期:2012年第10期

    借助直流脉冲微弧氧化(MAO)电源,采用恒压模式在AZS0镁合金表面制备四种不同厚度MgO陶瓷层,并以此为基,采用离子束复合磁控溅射技术沉积类金刚石碳(DLC)膜,对比研究了四种膜层体系(MAO-1min/DIE、MAO-3min/DLC、MAO-5min/DLC及MAO.10min/DLC)的表面结构特征、力学性能以及摩擦学性能差异。结果表明:随MAO层厚度增加,复合膜层表...

  • 无支撑优质金刚石膜研制中的相关问题探讨

    作者:丁明清 李莉莉 冯进军 刊期:2012年第10期

    无支撑优质金刚石膜在微波真空器件和光学器件中的广泛应用,有赖于制备成本的下降和工艺的完善。结合微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)金刚石膜的工艺研究结果,本文就沉积速率、晶面取向以及内应力的相关问题进行了初步探讨。对于给定的设备,沉积速率与多种因素有关,包括膜的质量、膜厚均匀性和有效沉积面积、以及形核的密度。在通常情况...

  • CaF2在真空铝热还原炼镁过程中的行为研究

    作者:王耀武 尤晶 冯乃祥 胡文鑫 刊期:2012年第10期

    对CaF2在以白云石和菱镁石为原料的铝热还原过程中的行为进行了研究,通过X射线衍射对还原渣和结晶产物的物相进行了分析,对CaF2在铝热还原过程的反应过程以及加速还原反应的机理进行了探讨。实验研究结果表明,在还原过程中加入CaF2可降低还原反应的活化能,加快还原反应速率,可使还原过程中的氧化镁还原率提高3%以上,但添加CaF2的效果随还...

  • 氧化铝真空碳热还原炉瞬态温度场模拟计算

    作者:周厚军 陈秀敏 杨斌 李亮 戴永年 刊期:2012年第10期

    以昆明理工大学真空冶金国家工程实验室氧化铝真空碳热还原炉为研究对象,依据传热学理论和氧化铝真空碳热还原炉的结构特点,分析了氧化铝真空碳热还原炉的加热和散热过程,并用有限元法建立了真空碳热还原炉瞬态温度场数值模拟计算模型,运用ANSYS软件对还原炉在持续加热下的瞬态温度场分布进行了数值模拟计算并得出了还原炉温度场的三维分布...

  • 真空蒸馏铟锡合金回收金属铟的研究

    作者:刘环 魏钦帅 刘大春 杨斌 戴永年 刊期:2012年第10期

    采用真空电阻炉对铟锡合金进行了实验研究。首先通过实验确定了较好的蒸馏时间和蒸馏温度范围。最后根据化验结果确定了对生产具有指导意义的实验条件,即对金属铟质量分数为90%的铟锡合金进行真空蒸馏时,采取的对生产具有指导意义的工艺条件为蒸馏温度1250℃,蒸馏时间60min;蒸馏温度1300℃,蒸馏时间40min;所得的金属铟的含铟量大于99%。

  • 磁控溅射设备中铜靶刻蚀形貌的仿真计算研究

    作者:胡伟 王人成 刊期:2012年第10期

    提出了一种铜靶刻蚀形貌模拟方法,基于靶材溅射率与靶材表面磁场水平分量成正比的假设,以美国应用材料公司的小行星PVD磁控溅射装置为算例,实现了复杂运动轨迹铜靶刻蚀形貌的模拟,仿真计算结果与实际设备中铜靶刻蚀形貌有较好的一致性,为通过磁场分布研究靶材刻蚀形貌提供了一种理论方法。

  • 旋转圆柱靶磁控溅射阴极的磁场模拟及结构设计

    作者:陈长琦 穆怀普 刘腾飞 裘一冰 刊期:2012年第10期

    基于旋转圆柱靶磁控溅射阴极的工作原理,建立其结构模型,并应用ANSYS有限元方法对旋转靶阴极磁场进行了模拟计算,得到了磁场分量眈在靶材表面上的二维磁场分布规律。通过调节磁铁的宽和高、磁铁间夹角以及设置可移动磁性挡板等方法优化磁场并设计了一种新型磁场结构旋转靶。本研究为旋转靶磁控溅射阴极的磁场结构设计提供了理论依据。

  • 磁流体密封的磁路设计及磁场有限元分析

    作者:杨小龙 李德才 杨文明 邢斐斐 李强 刊期:2012年第10期

    为了在磁流体密封结构的密封间隙内获得最大的磁能积以及提高磁流体密封的耐压能力,在磁路设计理论和磁流体密封理论的基础上,对一种并联型的磁流体密封结构进行磁路设计,采用有限元法数值计算出磁流体密封结构中的磁场从而计算出磁流体密封耐压能力,并对计算结果进行了分析和讨论。结果表明:极靴与永磁体结合处的漏磁以及中间极靴轴向长度...

  • 基于BP神经网络的真空度测量精度改善方法研究

    作者:汪洪波 陈长琦 游锦山 刊期:2012年第10期

    针对真空度测量精度低的现状,提出一种真空度测量精度改善方法。以热偶规为研究对象,基于BP神经网络设计真空度测量系统。通过设计BP网络结构,采用三种不同的算法对网络权值进行训练,以获得尽可能稳定、精度更高的BP神经网络。对三种算法由测试样本进行测试,三种算法训练的网络能较大程度地提高真空度测量精度,受热丝电流、热丝冷阻干扰影...

  • ICP—MS离子提取模型的建立与传输透镜的参数优化

    作者:孙传强 赵学玒 汪曣 刊期:2012年第10期

    电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)具有对一种或多种基本元素、同位素快速分析的能力,在诸多领域有其广泛应用。本文对ICP-MS接口部分中等离子体气流及离子的运动过程进行了理论分析,基于Child鞘层定律首次建立了正离子提取模型,以确定离子束形成的初始位置。然后在忽略空间电荷效应的前提下,利用电、离子光学模拟软件SIMION计算离子在透镜传...

  • 磁控溅射镀锌法显现潜手印初探

    作者:杨瑞琴 夏菲 吴明健 刊期:2012年第10期

    介绍了一种利用磁控溅射镀锌技术显现潜手印的新方法。考察了磁控溅射镀锌法适合显现的手印遗留客体的种类、颜色,不同遗留时间对显现效果的影响,以及手印显现率。结果显示,磁控溅射镀锌法较适于显现深色客体上的手印,且客体颜色越深,显现效果越好。对于塑料、铜版纸、铝合金、玻璃等客体上的手印有较好的显现效果,但橡胶和人造革类上的手...