杂志简介：《真空科学与技术学报》杂志经新闻出版总署批准，自1981年创刊，国内刊号为11-5177/TB，是一本综合性较强的工业期刊。该刊是一份月刊，致力于发表工业领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目：综述评述、研究快报、研究论文
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作者：刘建华; 徐可为 刊期：2004年第05期
利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl片和石英上沉积ZrO2薄膜.薄膜厚度80 nm～100 nm.利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线能谱仪、分光光度计和原子力显微镜研究了沉积温度对薄膜相结构和O/Zr、透射率的影响.研究发现,沉积温度升高,非晶相减少,结晶相增多;晶粒尺寸增大;沉积温度为370 ℃,透射率明显下降.
作者：张永炬; 余森江; 蔡萍根; 叶全林; 金进生; 叶高翔 刊期：2004年第05期
研究了沉积在硅油表面Al薄膜的特征表面形貌(一类具有准周期特征的带状结构)及其形成过程.实验发现:沉积结束后,随着Al薄膜样品在真空室中放置时间Δt的增加,Al薄膜中首先出现带状且不均匀的物质自发凝聚现象,随后逐渐演变成由一系列畴块有序排列而成的准周期带状结构.带状结构中畴块(一般为长方形)的大小不均,其宽度分布的最可几值约在5 μm～20 ...
作者：侯亚奇; 庄大明; 张弓; 孙涛磊; 江雷; 吴敏生 刊期：2004年第05期
利用中频交流磁控溅射技术制备了TiO2薄膜、Ag/TiO2复合薄膜和TiO2:MoO3复合薄膜,研究了TiO2薄膜的光生亲水性和防结雾特性,讨论Ag及MoO3对TiO2薄膜光生亲水性的影响.发现:制备的TiO2薄膜有良好的光生亲水性和防结雾效果,同时薄膜越厚其光生亲水性越明显.800 nm的TiO2薄膜在TUV辐照3 min后其接触角可下降至2°以下.Ag/TiO2复合薄膜是一种接触角在...
作者：刘天伟; 邓新禄; 王小英; 王英敏; 董闯 刊期：2004年第05期
在不同氮流量下,利用微波-ECR等离子体溅射沉积技术在45#钢基体上制备了ZrN薄膜.XRD、TEM分析结果表明:随着充入N2流量的改变,薄膜结构由单一的ZrN结构向ZrN和ZrNx复合结构转变,然后出现非晶态结构.当N2流量在(2～8) sccm之间,薄膜为ZrN结构;在(10～12) sccm时,为ZrN和正交的ZrNx(a=0.3585 nm,b=0.4443 nm,c=0.5798 nm)混合型结构;14 sccm时出现...
作者：夏星; 郭滨刚; 范玉锋; 刘纯亮 刊期：2004年第05期
为了研究CaO的加入对MgO PDP介质保护膜晶面择优取向的影响,使用不同CaO含量的MgO+CaO膜料,在不同的基底温度和沉积速率下进行电子束蒸发沉积,并对形成的Mg1-xCaxO膜进行了X射线衍射分析.结果表明,Ca含量越小,越容易形成〈111〉择优取向.在选取的所有基底温度和沉积速率下,纯MgO和Mg0.96Ca0.04O膜都形成了〈111〉晶面择优取向;Mg0.93Ca0.07O膜,...
作者：邹慧; 邹建新; 陈亚军; 吴爱民; 关庆丰; 张庆瑜; 董闯 刊期：2004年第05期
利用强流脉冲电子束(HCPEB)技术对碳素钢进行了表面改性处理.利用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对改性试样的表面性质进行了分析,结果表明:样品表面出现了'火山坑'状的凹坑,淬火态T8凹坑数量比45#钢少,凹坑深度比45#钢深.凹坑的密度与输入的能量密度成正比关系;此外,凹坑的分布密度先随轰击次数(n=1～5)的增加而增加,随后(n=6～10)略有降低;分...
作者：钱庆; 叶志镇; 袁国栋; 朱丽萍; 赵炳辉 刊期：2004年第05期
利用直流反应磁控溅射以Al、N共掺杂的方法生长p-ZnO薄膜.ZnO薄膜沉积于具有不同衬底温度的玻璃或Si衬底上,N来自NH3与O2的生长气氛,Al来源于AlxZn1-x(x=0.08%)靶材.利用XRD、XPS、Hall测试对其性能进行了分析.结果表明,用Al、N共掺杂的方法可以得到c轴择优取向的p型ZnO薄膜,载流子浓度为(1014～1015) cm-3,电阻率为(1.54～3.43)×103 Ω·cm,迁移...
作者：颜冲 刊期：2004年第05期
通过改变制备NiO薄膜的氩气压和衬底材料,研究了NiO的结构、表面粗糙度对NiO/CoFe双层膜交换耦合场Hex的影响.实验表明完全自旋未补偿面与交换耦合场的产生没有直接联系,但交换耦合场Hex与界面状况密切相关.增大NiO的表面粗糙度会使交换耦合场Hex减小.应用随机场理论在考虑了实际界面存在的粗造度、杂质和缺陷等实际情况下,正确地预测了交换耦合...
作者：刘智民; 刘小宁; 陈联; 宋士花; 刘胜; 胡纯栋 刊期：2004年第05期
利用对PV-10型压电阀定标实验,研究了中性束注入器Tank内补充气体的参数对离子源放电弧电流的影响,对比压电阀脉冲电源的脉宽和幅值,显示后者对Tank内补充气体量具有更显著的线性关系.据此进行的中性束注入器离子源放电实验结果表明,采用压电阀定标值计算获得的参数,可以稳定重复地获得最大放电脉宽达到400 ms的等离子体弧电流,为下一步向托卡马...
作者：龚建勋; 刘正义; 邱万奇; 闻立时; 林盛川 刊期：2004年第05期
采用真空蒸发沉积(蒸镀)聚乙烯醇薄膜,通过SEM和光学显微镜观察聚乙烯醇薄膜呈现典型的岛状形式并均匀分布于衬底表面,且以梯田状台阶式长大.衬底温度是影响PVA薄膜沉积速度的主要因素.红外光谱分析表明其蒸镀薄膜的主要化学结构特点是羰基代替了部分羟基.
作者：徐禄祥; 冷永祥; 孙永春; 龚发梅; 张琦; 杨萍; 黄楠 刊期：2004年第05期
本文利用脉冲真空弧源沉积技术在Cr17Ni14Cu4不锈钢和Si(100)基体上制备了类金刚石(DLC)薄膜,研究在不同基体偏压下,DLC薄膜的结构与性能.采用拉曼光谱和X射线光电子能谱(XPS)研究DLC薄膜的原子结合状态,利用CSEM销盘摩擦磨损试验机研究其耐磨性,利用HXD1000B显微硬度仪测试其显微硬度,并采用压痕法评价其结合力.研究结果表明:DLC薄膜与基体结合...
作者：周白杨; 卢志红; 林梅; 姜华; 邓光华 刊期：2004年第05期
本文采用铸造合金靶材和离子束溅射(IBS)技术制备TbDy-Fe超磁致伸缩薄膜(GMFs),研究了不同溅射方位(α角)对冷基片成膜过程和薄膜性质的影响.结果表明,在给定的溅射角范围内,薄膜表面平整光滑,组织致密,膜厚均匀且与基片结合良好,膜的结构均为非晶态;成膜生长速率、膜层成份以及λ值随α角的改变均呈现规律性的变化,当α角为α6左右时,沉积速率最大;...
作者：刘洪喜; 汤宝寅; 王浪平; 王小峰; 于永澔; 孙韬 刊期：2004年第05期
采用金属等离子体浸没离子注入与沉积技术在9Cr18轴承钢基体表面合成了类金刚石薄膜.研究了注入脉宽和工作气压对合成薄膜性能及化学组成的影响;通过激光Raman光谱、维氏硬度、针盘试验和电化学腐蚀等测试手段分别表征了合成薄膜后试样表面的化学组成和微观结构、显微硬度、摩擦磨损性能和抗腐蚀性能.结果表明:合成薄膜后,试样的显微硬度增大了8...
作者：陈祝; 张树人; 杨成韬; 李金龙; 王升; 张水琴 刊期：2004年第05期
通过醋酸铅、硝酸锆、钛酸丁酯分别制备独立稳定的前驱单体,采用Sol-Gel反提拉涂膜技术在基片Pt/Ti/SiO2/Si上制备PZT铁电薄膜.本文讨论了制备工艺对薄膜质量的影响,比较了在不同的退火速率,退火温度及退火气氛工艺中,制备的PZT铁电薄膜结构、性能的差异,并对其形成原因进行了分析.
作者：刘雄飞; 肖剑荣; 简献忠; 高金定 刊期：2004年第05期
使用CF4和CH4为源气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法制备了掺氟非晶碳(a-C:F:H)薄膜,并在N2气氛中进行了不同温度的退火.用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜在退火前后表面形貌的变化,发现退火后薄膜表面变得平坦,疏松.用紫外-可见光透射光谱(UV-VIS)并结合傅里叶变换红外光谱(FTIR)和喇曼(Raman)光谱对薄膜进行了分析,获得了薄膜...
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