首页 期刊 中国集成电路 超越96层,3D NAND工艺存在哪些挑战?记忆体层数堆叠的瓶颈与全新解决方案的机遇 【正文】

超越96层,3D NAND工艺存在哪些挑战?记忆体层数堆叠的瓶颈与全新解决方案的机遇

作者:Steve; Shih-Wei; Wang 泛林集团
层数   3d   工艺   记忆体   堆叠  

摘要:与2D NAND技术中的扩展实践不同,在3DNAND中降低位成本和增加芯片密度的直接方法是增加层数。2013年,三星交付了首款采用MLC技术的24层V-NAND产品。五年后的2018年,3D-NAND供应商均宣布将使用TLC生产96层NAND。根据最新报道,供应商已经在开发包含更多层数的下一代3D NAND。然而,3D NAND的工艺存在哪些难题?随着使用层数的增加,它的上限又是什么呢?

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