首页 期刊 中国集成电路 KLA-Tencor推出新型缺陷发现与监控技术 【正文】

KLA-Tencor推出新型缺陷发现与监控技术

缺陷发现   监控技术   检查系统   检测平台   nano  

摘要:KLA—Tencor公司日前宣布,推出采用Nano—Poin/TM技术的2910系列光学晶阋缺陷检测平台和新型eDRTM-7100电子柬品圆缺陷检查系统。为了满足集成电路制造商在先进设备上更快追踪缺陷的需要,这两款系统兼具快速和无缝接轨的优势,能够迅速发现和识别影响成品率和可靠性的缺陷。

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