液晶与显示杂志 北大期刊 CSCD期刊 统计源期刊

利用CF4等离子体制作高开口率TFT—LCD

作者：金奉柱; 崔莹石; 刘圣烈; 张炳铉; 柳在一; 李禹奉; 李贞烈 刊期：2006年第05期

为了获得高的开口率，有必要优化设计参数和工艺容差。通常的过孔刻蚀工艺采用SF6基气体进行刻蚀，但是这种方法在金属和钝化层之间的选择性太小，因此，必须增加过孔的尺寸才行。为了克服上述问题，在本研究中用CF4气体代替SF6气体进行刻蚀，结果在FFS5．16（2．03in）像素结构中，开口率提高了60％。

2005年物理学类期刊影响因子排序（前10名）

刊期：2006年第05期

PDLC制备过程中聚合物和液晶的选择

作者：曹须; 刘文菊; 王杰; 牟俊霞; 樊晓琴; 尹环; 梁晓 刊期：2006年第05期

介绍了使用聚合引发相分离（包括热固化、紫外光固化和电子束固化）制备聚合物分散型液晶（PDLC：Polymer Dispersed Liquid Crystal）的工艺和原材料，对不同聚合物与液晶的匹配进行了简单分析和总结，并整体评价了这些方法，指出了在实际应用过程中容易遇到的各种问题，对聚合物分散型液晶的制备工艺有一定借鉴作用．

含环己基（苯基）四环酯类液晶结构与性能关系研究

作者：胡岚; 高仁孝; 冯凯 刊期：2006年第05期

报道了4个系列10余种含环己基（苯基）四环酯类液晶单体的热性能和光电性能参数，并利用成熟的PCH基础配方研究了环己烷酯类在混晶配制时的添加性能，首次报道了此类混晶的饱和电压、阈值电压、双折射数据。所合成化合物都使基础配方介晶相温度范围增宽30．78℃，证明此类化合物可以用于混配过程的工作温度范围调节，是宽温混晶的优良添加剂。

Al-C—Ni组分的变化对Al-C—Ni与ITO层接触电阻的影响

作者：金原奭; 金圣雄; 崔大林; 柳在一; 李禹奉; 李贞烈 刊期：2006年第05期

为克服大尺寸显示面板中反应时间的延迟问题，采用低阻栅线是十分有益的，同样在小尺寸面板上也存在这种相互匹配的过程。然而，由于Al较高的氧化速度，铝合金和ITO材料接触性能并不太好。文章介绍了在室温ITO沉积过程中，通过增加ACX（APC—Ni）中Ni含量来减少ACX-ITO接触电阻。经室温ITO沉积后，接触电阻成功地减少到300 Ω，而且没有ACX引起的...

SI单位的倍数单位

刊期：2006年第05期

SI单位的倍数单位是由SI词头与SI基本单位和SI导出单位构成。倍数单位的选取一般应量的数值处于0．1～1000之间。

棒状液晶分子相变问题的机械旋转模型研究

作者：马恒; 孙瑞芝 刊期：2006年第05期

综述一种关于棒状液晶材料的分子结构与液晶相的相关关系的研究成果。介绍了有关液晶分子的机械旋转模型。该模型将液晶分子视作一种高速旋转的转子，通过分子参数计算，对液晶材料的相变温度和分子结构之间的关系给出了一种全新的解释。最新研究表明，含氟三苯液晶材料的分子结构中存在slim和fat现象，能够对液晶材料的相变进行合理解释。该模...

数值范围的表示法

刊期：2006年第05期

1．数值范围采用波浪号“～”。 2．书写百分数范围，每个百分数后面的“％”都要重复写出。例如“10%～20％”不能写成“10-20％”。

利用等离子增强化学汽相沉积生长初期快速结晶的纳米晶硅

作者：金圣雄; 金原奭; 柳在一; 李禹奉; 李贞烈 刊期：2006年第05期

成功地利用传统的等离子增强化学汽相沉积技术制备了纳米晶硅。为了提高生长初期的结晶速度，在PECVD设备和干法刻蚀设备中，利用H2／SF6等离子体对SiN，薄膜表面进行处理。在制备纳米／微米晶粒结晶硅时常用的氢气稀释条件下，沉积得到了纳米晶硅。利用XRD和TEM观察了氢化纳米晶硅（nc-Si：H）的微结构，发现实验成功得到了小于10nm的晶体硅。...

文章编码的识读

刊期：2006年第05期

为了便于期刊文章的检索、查询、全文信息索取和远程传递以及著作管理，凡具有文献标识码的文章均可标识一个数字化的文章编号，其中A（理论与应用研究学术论文（包括综述报告））、B（实用性技术成果报告（科技）、理论学习与社会实践总结（社科））、C（业务指导与技术管理性文章（包括领导讲话、特约评论等））三类文章必须编号。

羟基和交联剂对PDLC膜电-光性能的影响

作者：王丽萍; 杨海莲; 王立波; 张卫东; 曹晖; 杨槐 刊期：2006年第05期

通过选用含有羟基的丙烯酸酯类单体制备聚合物分散液晶（PDLc）膜，研究了羟基的存在和不同的制膜工艺条件对PDLC膜电-光性能及稳定性的影响。通过分别添加具有刚性和柔性的交联剂，使羟基参与交联，研究了PDLC膜电-光性能及稳定性的变化规律。研究表明向单体中添加含有羟基的分子结构不同的丙烯酸酯，可提高PDLC膜中聚合物网络与两片ITO膜之间...

国际单位制（SI）

刊期：2006年第05期

在科技期刊和科技论文中，要求物理量和单位使用国际单位制（SI）和法定计量单位。国际单位制的构成是：

含氟单体材料对全息聚合物分散液晶Bragg光栅电光特性的影响

作者：宋静; 郑致刚; 刘永刚; 李静; 宣丽 刊期：2006年第05期

在全息聚合物分散液晶的预聚物体系中添加含氟的单丙烯酸酯单体，制备全息聚合物分散液晶Bragg光栅，通过AFM、He-Ne激光器观察分析，发现甲基丙烯酸十二氟庚酯（Actyflon—G04）的添加不仅改善聚合物基质的形貌，同时也影响光栅的电光特性。实验结果表明，光栅的衍射效率从78％上升到90％，驱动电压V90大幅降低。分析认为，Actyflon-G04的添加...

公差表示法

刊期：2006年第05期

1．参量与其公差的单位相同时，单位可以只写1次。例如：“12．5mm±0．2mm”可写为“（12．5±0．2）mm”，但不得写作“12．5±0．2mm”。公差用百分数表示时，例如：“λ=550nm±2％”这种表示是错误的，应为“λ=550×（1±0．02）nm”。

获得精细通孔图形的光刻技术改进

作者：宋泳锡; 刘圣烈; 柳在一; 张炳铉; 李禹奉; 李贞烈 刊期：2006年第05期

为了获得更高性能的TFT—LCD面板，在光刻时保证精细的图形成像十分重要，其中，如何制作出尺寸更小的通孔图形是主要的问题之一。本文提供的研究中，我们只简单地改变了一下烘烤工艺，而不需要改变Eop和显影时间，就可以将通孔图形的尺寸减小20％～25oA。在后续的刻蚀工艺中，通孔的尺寸能显著减小。