微细加工技术杂志 统计源期刊
Microfabrication Technology
杂志简介：《微细加工技术》杂志经新闻出版总署批准，自1983年创刊，国内刊号为43-1140/TN，是一本综合性较强的电子期刊。该刊是一份双月刊，致力于发表电子领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目：综述、电子束技术、离子束技术、光子束技术、薄膜技术、微机械加工技术、纳米技术
杂志简介：《微细加工技术》杂志经新闻出版总署批准，自1983年创刊，国内刊号为43-1140/TN，是一本综合性较强的电子期刊。该刊是一份双月刊，致力于发表电子领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目：综述、电子束技术、离子束技术、光子束技术、薄膜技术、微机械加工技术、纳米技术
作者：蒋文波 胡松 刊期：2008年第04期
介绍了无掩模光刻技术的现状和存在的问题，并对几种常见的无掩模光刻技术进行了详细的对比分析。研究表明，扫描电子柬光刻具有极高的分辨率，但是生产效率较低；波带片阵列光刻技术已经在理论和实验上取得了广泛的成果，在保持无掩模光刻技术高分辨力的同时，对电子束的低效率将是一种补充，是一种很有潜力的用于制作掩模版的光刻技术。
作者：朱效立 谢常青 赵珉 陈宝钦 叶甜春 牛洁斌 张庆钊 刘明 刊期：2008年第04期
为了制备高线密度X射线透射光栅掩模，分析了电子束光刻中场拼接对高线密度光栅图形的影响；利用几何校正技术和低灵敏度的950k的PMMA电子束抗蚀剂，克服了电子束的邻近效应对厚胶图形曝光的影响。采用电子束光刻和微电镀的方法制备了5000 line／mm X射线透射光栅的掩模，并将栅线宽度精确控制在100nm～110nm，为X射线光刻复制高线密度X射线透射...
作者：李勇滔 韩立 刊期：2008年第04期
为了快速准确地获取清晰的SEM显微图像，提出了一种基于图像分析的SEM显微视觉自动聚焦技术。该技术采用了两级清晰度评价函数的自动聚焦策略，首先利用基于灰度差分的评价函数对图像进行分析评价，然后以大步距遍历搜索函数峰值，直至第一次经过峰值；接着，再利用基于DCT（discrete cosine transformation）变换的评价函数来分析评价图像之后...
作者：赵珉 陈宝钦 刘明 谢常青 朱效立 刊期：2008年第04期
作为一种非化学放大的无机负性电子束光刻抗蚀剂，HSQ（hydrogen silsesquioxane）具有极高的分辨率（约5nm），由于灵敏度较低，限制了其在微纳米加工方面的应用。从化学结构变化的角度分析了HSQ在电子束曝光中的性能，通过实验验证了其灵敏度及对比度受前烘温度及显影液浓度的影响较大，并且其在电子柬曝光中的邻近效应也可以通过改变这两个条...
作者：巩春志 田修波 杨士勤 刊期：2008年第04期
介绍了一种新的等离子体离子注入在不锈钢表面改性上的应用。将高压脉冲和射频脉冲直接耦合到工件上，不需外部等离子体源，利用工件自身加射频产生等离子体，随后施加高压对不锈钢表面进行了注氮处理。XPS分析显示，在基体表面有氮元素存在，说明实现了射频与高压直接耦合的离子注入效果。进一步研究表明，等离子体离子注入后，在不锈钢基体表...
作者：徐作冬 刘颖 徐向东 徐德权 付绍军 刊期：2008年第04期
基于楔形光学平板的等厚干涉原理，提出了一种透射衍射光学元件扫描离子束刻蚀深度的在线检测方法，用一块与被刻蚀光学元件材料相同的楔形薄片作为陪片，在刻蚀过程中将其遮挡一半，利用陪片等厚条纹的错位去测量其刻蚀深度，从而间接检测出被刻蚀光学元件的刻蚀深度。在KZ-400大型离子束刻蚀装置上建立了这种在线检测装置。多次实验表明，在线...
作者：周国安 柳滨 王学军 种宝春 刊期：2008年第04期
为了使CMP抛光精度更为精确，根据光学干涉原理设计了单点光学终点检测装置，给出了整套检测系统的简图和处理流程。在理想条件下，仿真单点光学检测的相干相位及反射率迹线，得出反射率迹线与抛光掉的透明层存在着函数关系，在实际条件核实了二者之间映射情况。采用九点测量后确认此函数条件下的单点光学终点检测具备高度的精确性，在此基础上...
作者：熊瑛 刘刚 田扬超 刊期：2008年第04期
通过分析脱模过程的摩擦力，讨论了模具表面处理工艺与压模质量的关系，给出了降低脱膜过程摩擦力的工艺方法。实验结果表明，用类聚四氟乙烯膜作为脱模剂能大大减小模具表面与聚合物表面的摩擦力。研究了压模、脱模工艺参数对实验结果的影响，基于HEX-02塑铸系统，真空条件下，在压模温度为195℃，模压压强为8MPa的环境下，利用热压印技术在PMM...
作者：蒋茂华 翟立斌 陈继民 刊期：2008年第04期
金属细管的微细切割，目前使用最多的是YAG激光器。但随着光纤激光器的发展，光纤激光器也逐渐使用到金属细管的微细切割上。首先使用光纤激光器对钴铬合金细管进行切割，通过改变气体、气压、脉宽以及切割速度观察影响切割质量的因素。得出应用氩气和氮气作为辅助气体时，效果要好于压缩空气；存在一个最佳的气压；随着脉冲宽度的降低，切割质...
作者：贾宏杰 程树英 刊期：2008年第04期
利用真空热蒸发法在玻璃基片上制备SnS薄膜，在50℃～200℃之间，研究了基片温度对SnS薄膜的结构、形貌和光电性能的影响。结果表明，随着基片温度的升高，SnS薄膜的结晶度越好，薄膜变得更光滑，薄膜颗粒也增大了；薄膜的平均粗糙度从19．1nm减小到3．92nm，薄膜颗粒的平均粒径从108nm增大到150nm。而且随着基片温度的升高，SnS薄膜的栽流子浓...
作者：朱继国 丁万昱 王华林 张树旺 张粲 张俊计 柴卫平 刊期：2008年第04期
利用直流脉冲磁控溅射方法在玻璃衬底上制备太阳电池背接触Mo薄膜。通过台阶仪、四探针电阻仪、X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计等研究了Ar气压强对薄膜结构及光电性能的影响，结果表明，在低的Ar气压强下制备的Mo薄膜晶粒尺寸较大，薄膜结晶质量好，薄膜具有优良的光电性能，Ar气压强的增加将导致薄膜的晶粒尺寸减小，薄膜结晶质量差，结构疏...
作者：王丽军 王小平 张雷 王隆洋 刊期：2008年第04期
采用石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积（MWPCVD）设备制备了大面积金刚石薄膜，结合X射线衍射谱（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和激光喇曼（Raman）谱等实验手段，较系统地研究了衬底位置对金刚石薄膜质量的影响规律。结果表明，在等离子体球内部的空间范围内，距等离子体球中心垂直距离越远衬底上所沉积的金刚石薄膜质量越好；通过调整衬底...
作者：文永蓬 王安麟 姜涛 刘钊 刘广军 刊期：2008年第04期
以提高微机械陀螺性能为目的，设计了一种新颖的音叉振动式微机械陀螺。该陀螺的特征在于：驱动和检测模态都是面内的，主要的空气阻尼是滑膜阻尼，使系统具有较低的能量损失和较高的Q值；对称的音叉式结构使检测电容加倍，并且由于中间结构的采用，对于加工误差具有较好的健壮性；采用驱动和检测方向具有较大刚度比的近似U型梁，使机械耦合大大...
作者：牛文国 刘丽峰 乔金菊 刘翠袖 刊期：2008年第04期
二维纳米胶体球膜版是利用纳米球刻蚀法制备纳米颗粒阵列的前提条件。介绍了一种利用自组装法在基片上直接制备二维聚苯乙烯纳米球膜版的新工艺，讨论了影响获得大面积、高度有序膜版的主要因素，即基片的倾角、悬浮液的浓度、基片的物理化学性质、环境的温度和湿度。利用原子力显微镜对膜版的形貌进行了表征，结果表明，利用这种工艺可以得到排...
作者：高超群 李全宝 刘茂哲 景玉鹏 刊期：2008年第04期
半导体IC清洗技术由于水溶液的表面张力大而无法进入硅片上器件的狭缝与电路线条间隙中进行清洗，同时不易干燥，且干燥时会造成二次污染，从而使得整个工艺耗水量大且清洗效果不佳。以超临界流体为媒体的清洗技术是克服以上缺点的最佳途径。提出并研制了一种绿色二氧化碳超临界清洗设备，它利用超流体二氧化碳来进行硅片的清洗和无张力的超临界...
影响因子：0.16
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发行周期：旬刊
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发行周期：月刊
影响因子：0.64
期刊级别：部级期刊
发行周期：半月刊
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期刊级别：北大期刊
发行周期：月刊
影响因子：1.92
期刊级别：北大期刊
发行周期：旬刊
影响因子：2.55
期刊级别：北大期刊
发行周期：旬刊
影响因子：0.7
期刊级别：省级期刊
发行周期：旬刊
影响因子：0.69
期刊级别：省级期刊
发行周期：双月刊
影响因子：0.31
期刊级别：省级期刊
发行周期：旬刊
影响因子：0.38
期刊级别：部级期刊
发行周期：半月刊
影响因子：2.06
期刊级别：部级期刊
发行周期：半月刊
影响因子：0.31
期刊级别：部级期刊
发行周期：月刊