微细加工技术杂志 统计源期刊

电子束曝光控制软件系统设计与实现

作者：魏淑华; 宋志; 张今朝; 韩立 刊期：2007年第06期

电子束曝光系统作为复杂半导体加工设备,需要功能强健的控制软件系统来保证其正常运行.介绍了具有自主版权的EB(electron beam)writer电子束曝光控制软件系统,它由版图绘制模块、对准控制模块和曝光控制模块组成,利用VC++6.0开发环境实现.实验结果表明.该软件系统可实现微光刻及微纳加工版图的绘制编辑和电子束曝光全过程的控制,且具有可扩展性,...

中能离子注入机用静电吸盘

作者：肖仁耀; 孙雪平 刊期：2007年第06期

简要介绍了静电吸盘的工作原理,理论分析了六相静电吸盘的工作模式,对静电吸盘进行了结构设计和制作工艺研究,并对静电吸盘的工艺性能尤其是静电吸盘在不同压力的氮气冷却性能进行了研究.实验结果表明.静电吸持电压的频率为30 Hz时最佳,这时电压一般为0.5 kV-1 kv,所需电源的功率较小.

激光聚焦扫描扇区掩模制作光电码盘新方法

作者：赵立新; 胡松; 王肇志; 罗正全 刊期：2007年第06期

为了改进光电码盘的制作工艺,提高效率,降低成本,提出了一种光电码盘的光刻方法.通过计算机控制激光聚焦扫描扇区掩模制作来选择扇区掩模的码道,采用光学光刻的方法制作码盘,取消了传统码盘光刻的精缩物镜和穿孔带.同时,扫描光斑远大于直写光斑,大大提高了加工效率.阐述了高斯光斑的腰束半径与扫描步距的关系,分析了扫描场能量分布的不均匀度,并...

ICP刻蚀技术在808 nm激光器中的应用

作者：王致远 刊期：2007年第06期

柔性衬底上六噻吩薄膜的有序生长

作者：沐俊应; 陈振兴; 梁氏秋水 刊期：2007年第06期

采用石英晶体微天平实时监测薄膜生长速率,控制衬底温度和生长速率,分别在柔性聚乙烯吡咯烷酮(PVP)绝缘层和柔性氧化铟锡(ITO)透明导电层上真空蒸发沉积了分子有序排列的六噻吩薄膜.X射线衍射分析表明,对PVP层而言,六噻吩薄膜有序生长的条件为衬底温度90°c、生长速率10 nm/min,六噻吩分子链始终与衬底平行,降低衬底温度将导致薄膜结晶度的下降....

蓝宝石衬底上二维亚波长增透结构的设计分析

作者：徐启远; 刘正堂; 李阳平; 闫峰 刊期：2007年第06期

利用等效介质理论、薄膜理论研究了二维亚波长结构的增透设计,以蓝宝石衬底为例,研究了二维亚波长结构的增透设计,分析了该结构的周期、占空比、高度等参数对增透率的影响,通过分析找到了合适的结构参数.结果表明,当二维亚波长结构的等效折射率等于增透镀层材料的折射率、刻蚀高度等于单层理想增透膜的厚度时,这种结构具有良好的增透效果.采用蓝...

等离子辅助化学气相沉积制备可延展的硅薄膜

作者：韩喻; 谢凯 刊期：2007年第06期

利用等离子辅助化学气相沉积方法在单晶硅基底表面制备出可延展的硅薄膜.通过对薄膜生长过程的观察,确定延展性是最终脆性硅薄膜生长的中间状态,实验证明,沉积层表现出的延展性与螺旋带等柔性材料存在本质差别,需要小于临界厚度才能呈现柔性状态的机理并不适用,沉积工艺导致的内部结构的差异才是根本原因.但沉积层中Si原子以何种晶格结构排列并...

Zn1-xCoxO纳米复合薄膜的磁特性

作者：任妙娟; 唐海马; 赵鹏; 张军 刊期：2007年第06期

用磁控溅射交替沉积和退火的方法制备了不同Co含量的ZnO纳米颗粒薄膜Zn1-xCoxO,并研究了其磁特性.发现室温下的比饱和磁矩随Co含量x(体积比)的减小而单调下降,矫顽力在x=0.5附近达到极大值.在温度从5 K升到50 K的过程中,磁矩迅速下降,50 K以上,磁矩基本不随温度变化.其原因是低温下,小的颗粒表现出铁磁性,随着温度升高至50 K,小颗粒变成超顺磁性...

蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺研究

作者：赵之雯 刊期：2007年第06期

由于蓝宝石衬底片的精密加工工艺复杂,最优工艺参数尚未明确,是目前国内重点研究的难题.采用X62 81521型抛光机对蓝宝石衬底片的精密加工技术一化学机械抛光工艺进行了研究.通过对蓝宝石抛光工艺性能参数的系统分析,采用了粒径为40 nm、低分散度的碱性SiO2,溶胶抛光液;通过大量实验总结,提出了优化方案,在pH值11.7、温度40 °c、压力在0.12 Mpa至...

反相微乳法制备锆锰掺杂六铝酸盐催化剂的研究

作者：王苑娜; 余倩; 余林; 张绮旎; 孙明; 凌伟军; 江东权; 莫春生 刊期：2007年第06期

利用三相图确定了稳定的OP-10乳化剂/正丁醇/环己烷/水反相微乳体系,并采用反相微乳法和超临界干燥技术制备了纳米锆锰掺杂六铝酸盐催化剂.X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、比表面积(BET)和氢气程序升温还原(H2-TPR)对锆锰掺杂六铝酸盐进行表征.分析结果表明,催化剂制备的最佳焙烧条件为1 050℃,焙烧4 h,比表面积为78.185 m2/g,颗粒分散均...

微细电铸电流密度的有限元分析

作者：李国锋; 王翔; 何冀军; 朱学林; 黄文浩 刊期：2007年第06期

微细电铸过程中,阴极表面的电流密度分布直接影响沉积层的质量.通过对电沉积基本原理的分析,得到了电流密度及其分布对电沉积过程和沉积层质量的影响关系,结果表明,阴极表面金属层的沉积速率与电流密度成正比,沉积层厚度分布与电流密度分布一致.重点利用有限元方法对电沉积系统中电流密度进行了计算,对于不同形状和不同导电化处理方法的微结构,...

一种基于薄膜体声波谐振器的高灵敏度质量传感器

作者：马绍宇; 韩雁; 董树荣; 李侃; 周海峰 刊期：2007年第06期

介绍了一种针对于生物传感应用的薄膜体声波谐振(thin film bulk acoustic resonator,FBAR)质量传感器.薄膜体声波谐振器谐振频率非常高(能够达到几兆赫兹),同时具有较大的品质因数,基于这种器件的质量传感器具有非常高的质量灵敏度.首次提出了三对全金属的A1-W层作为布拉格声学反射层的FBAR,制备出了固态装配型的FBAR传感器.通过淀积不同厚度Al...

一种新型的全局互连结构及其加工方法

作者：张丛春; 刘兴刚; 杨春生; 石金川 刊期：2007年第06期

随着特征尺寸的缩小,互连成为制约集成电路性能提高和成本下降的主要因素.为了降低互连延迟,提出了一种全新的全局互连结构,即利用掩膜电镀和CMP技术形成三维的铜互连结构,再利用牺牲层技术将三维结构镂空,得到悬空的全局互连结构.该结构可大大地降低全局互连对延迟的影响.

磁头滑块的湿法与干法刻蚀实验研究

作者：谭晓兰; 孟永钢; 李宁; 林晶 刊期：2007年第06期

主要研究了计算机硬盘磁头滑块的微加工实验方法.首先以一种典型的磁头滑块结构为例,进行了掩模版的设计与制作;然后利用光刻、湿法刻蚀和干法刻蚀的工艺及设备,分别进行了该磁头滑块结构的湿法和干法刻蚀试验,给出了刻蚀参数及所加工的磁头照片;最后利用三维表面形貌仪.分别对湿法刻蚀和干法刻蚀的磁头结构进行了数据分析.结果表明,所提出的磁...

Cu互连应力迁移失效有限元分析

作者：刘静; 刘彬; 汪家友; 吴振宇; 杨银堂 刊期：2007年第06期

为研究铜互连系统中各因素对残余应力及应力迁移失效的影响,建立了三维有限元模型,用ANSYs软件分析计算了Cu互连系统中的残余应力分布情况,并对比分析了不同结构、位置及层间介质材料的互连系统中的残余应力及应力梯度.残余应力在金属线中通孔正下方M2互连顶端最小,在通孔内部达到极大值,应力梯度在Cu M2互连顶端通孔拐角底部位置达到极大值.双...