微细加工技术

微细加工技术杂志 统计源期刊

Microfabrication Technology

杂志简介:《微细加工技术》杂志经新闻出版总署批准,自1983年创刊,国内刊号为43-1140/TN,是一本综合性较强的电子期刊。该刊是一份双月刊,致力于发表电子领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目:综述、电子束技术、离子束技术、光子束技术、薄膜技术、微机械加工技术、纳米技术

主管单位:信息产业部
主办单位:中国电子科技集团公司第48研究所
国际刊号:1003-8213
国内刊号:43-1140/TN
创刊时间:1983
所属类别:电子类
发行周期:双月刊
发行地区:湖南
出版语言:中文
预计审稿时间:3-6个月
复合影响因子:0.19
总被引量:870
H指数:13
期刊他引率:1
  • 2005年太阳电池产业现状及2006年的发展趋势

    作者:王文静 刊期:2006年第03期

      2005年世界太阳能产业受到德国及欧洲其它国家可再生能源法的拉动进入快速发展期,太阳电池的产量达到1818MW,比2004年的1256MW增加工了45%,虽然比2004年的68%的增长量稍低,但也是近年来增幅较大的一年.……

  • 微细切削加工技术

    作者:曹自洋; 何宁; 李亮 刊期:2006年第03期

    介绍了微细切削加工技术的研究背景,并对其研究现状进行了评述,分析了微细切削加工技术在研究与发展过程中存在的主要问题,提出了将来的研究方向.

  • 图形发生器的成像系统

    作者:刘伟; 魏淑华; 方光荣; 顾文琪 刊期:2006年第03期

    为实现电子束曝光机扫描场的线性畸变校正,设计了图形发生器的成像系统,该系统包括硬件和软件两部分.硬件设计上使用了高速、高精度模数转换器,并对其工作方式及图像采集流程做了具体阐述.软件设计上利用点阵成像的原理,把采集到的图像信号转变成相应的灰度值,并按点阵排列,将最终获得的图像显示在计算机屏幕上,以实现校正.同时还给出了对图像进...

  • 基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的研制

    作者:张今朝; 方光荣 刊期:2006年第03期

    介绍了基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的原理,详细分析了此系统的硬件设计、软件设计以及扫描场的校正过程.利用硬件获取扫描图像,并进行实时标记校正,利用软件进行标记位置识别和校正参数计算,满足了曝光机对准系统在性能和精度上的要求.在100 μm扫描场下进行拼接曝光实验,达到了77.3 nm(2σ)的拼接精度.

  • 浸没式ArF光刻系统中光学因素对L形图形的影响

    作者:张飞; 李艳秋 刊期:2006年第03期

    利用Prolith 9.0软件计算了浸没式ArF光刻中杂散光、光线偏振态和几何像差对目标线宽为65 nm的L形图形成像质量和光刻性能的影响,研究了杂散光、光线偏振态和几何像差对L形图形成像质量和光刻性能的影响规律.结果表明,杂散光使得L形图形图像对比度降低、线宽减小和图形位置误差增大;像散、慧差和球差可导致成像质量降低、线宽和图形位置误差增大...

  • CO2激光切割PCR生物芯片储液池参数的研究

    作者:苏奇名; 刘世炳; 陈涛; 鲍勇; 武强 刊期:2006年第03期

    针对生物芯片中广泛应用的高聚物材料,利用其对波长为10.6 μm的CO2激光具有良好的吸收性这一特点,对生物芯片储液池进行加工.根据理论分析,提出影响切割表面粗糙度的主要因素在于激光功率P、切割速度Ve和离焦量L,并结合实验数据通过函数拟合得出经验公式,采用CO2激光加工的PCR生物芯片储液池,其切割面粗糙度可达0.05 μm,加工速度可达1 m/min,使...

  • 碳纳米管的微操纵

    作者:孙志; 秦水介 刊期:2006年第03期

    利用原子力显微镜对碳纳米管进行微操纵研究.首先,选择出适合系统使用的基底;然后,在基底上利用原子力显微镜接触模式,成功地对碳纳米管束进行了推动、切割和弯曲等操纵;最后,讨论了影响微操纵的一些系统参数,总结出该系统微操纵的适合参数为:参考点4.0~5.0,扫描频率20 Hz~50 Hz.该研究为微/纳米机械装配技术的发展进行了有益的探索.

  • 平面微电机定子线圈制作工艺研究

    作者:杨杰伟; 吴一辉; 王淑荣; 张平 刊期:2006年第03期

    为了在平面微电机有限大尺寸的定子上制作高深宽比结构的绕组线圈,对高深宽比微结构的制作工艺进行了研究,综合比较各方面因素,从中找出了成品率高、可重复性好、工艺步骤尽量简单的平面线圈制作工艺,即在硅沟槽里通过微电铸得到高深宽比平面铜线圈的深刻蚀成型电铸工艺,并分析了光刻工艺关键参数之间的关系及对后续工艺的影响.通过该工艺制作的...

  • 基于MEMS的放射性同位素电池的设计与实现

    作者:孙磊; 苑伟政; 乔大勇 刊期:2006年第03期

    介绍了放射性同位素63Ni同位素微电池(radioisotope micro battery)的工作原理、结构和性能指标,建立了电池电流的计算公式.针对传统同位素微电池的倒三角直槽型或倒金字塔型能量转换结构表面积较小的缺陷,设计了一种垂直侧壁方孔阵列型的能量转换结构,增大了其表面积,得到最佳结深范围2 μm~3 μm,最佳掺杂浓度NA=1020/cm3,ND=1017/cm3.在此基础...

  • 用于微流控芯片系统的超疏水表面的制备

    作者:吴建刚; 岳瑞峰; 胡欢; 曾雪锋; 康明; 王喆垚; 刘理天 刊期:2006年第03期

    为了分析超疏水表面的物理特性及应用前景,介绍了粗糙超疏水表面的两种理论模型,提出了一种基于MEMS加工技术的超疏水表面制备工艺,即利用ICP刻蚀工艺制备规则的硅方柱,并用旋转涂覆TeflonR AF1600作为疏水薄膜,制备了疏水特性可控的硅表面.对接触角进行了测量,结果表明,在平整Teflon薄膜表面上,去离子水液滴的本征接触角约为117 °,在边长间距比...

  • 一维压电式微定位机构的设计研究

    作者:孙宝玉; 刘虹; 梁淑卿 刊期:2006年第03期

    针对精密工作台高速、低精度的矛盾,以柔性铰链为导向元件、压电陶瓷为驱动器,研究、设计了一种一维高分辨率压电式微定位机构.由于精密工作台高速运动产生的运动惯量较大,欲实现亚微米级的定位精度是很困难的,因而在精密工作台运行到位后,由微定位机构对检测装置所检测出的定位误差进行补偿,以提高工作台的定位精度;由于压电陶瓷微位移器件输出...

  • 用于调焦调平测量系统中的硅片表面形貌模型

    作者:陈飞彪; 李小平 刊期:2006年第03期

    以硅片表面的平整度(flatness)和硅片表面的全场厚度范围(TTV)等参数为基础,建立了硅片表面的理论形貌模型.根据调焦调平测量系统指标等确定了调焦调平测量系统的有效频带,并设计了相应的滤波器.对硅片表面的理论形貌进行滤波后,得到用于调焦调平测量的硅片表面形貌的模型.由于该模型包括硅片表面在一个曝光视场内的模型和全场模型,并以SEMI标准...

  • 微喷射技术制备的化学镀金属银线微结构

    作者:房汝建; 侯丽雅; 章维一; 王春晖; 朱丽 刊期:2006年第03期

    采用一种称为微喷射的新方法制备了微米尺度金属银线.在该方法中,用压电陶瓷驱动器提供的微振动实现微喷嘴内部液柱的均匀破碎和喷射,并通过微喷射系统,把银氨溶液和还原剂溶液喷射到基材表面.采用金属化学沉积技术,在室温下还原出金属银,并沉积在指定的位置.构建的微喷射系统具有脉冲可控和喷射量可控的特征,并且能够实现皮升(picoliter)到飞升...

  • 碳纳米管在APTES自组装膜表面沉积的研究

    作者:彭倚天; 胡元中; 王慧 刊期:2006年第03期

    基于碳纳米管(CNTs)能沉积到3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)自组装膜表面而定位,采用自组装方法,在硅基底上制备了具有氨基表面的APTES自组装膜.将APTES自组装膜浸入碳纳米管分散液(N,N-二甲基甲酰胺,DMF)中,实现了CNTs在APTES自组装膜上的沉积.实验发现,温度、时间以及CNTs在分散液中的浓度等因素对碳纳米管在APTES自组装膜上的沉积有很大影响.结...

  • 微流控芯片热压键合设备的结构设计

    作者:张凤莲; 朱静 刊期:2006年第03期

    以塑料微流控芯片的热压加工技术为基础,以实现自动化和批量化为目标,对芯片热压键合设备的机械结构进行设计研究,在保证芯片受压均匀的情况下,对设备机身的结构、加压方式等进行了分析,确定设备机身采用闭式双立柱结构,上部加压方式,通过力矩电机、螺旋升降机带动压头完成压力输出,并对压头的运动进行导向.实验表明,在热压芯片时,该设备能够将...