微细加工技术

微细加工技术杂志 统计源期刊

Microfabrication Technology

杂志简介:《微细加工技术》杂志经新闻出版总署批准,自1983年创刊,国内刊号为43-1140/TN,是一本综合性较强的电子期刊。该刊是一份双月刊,致力于发表电子领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目:综述、电子束技术、离子束技术、光子束技术、薄膜技术、微机械加工技术、纳米技术

主管单位:信息产业部
主办单位:中国电子科技集团公司第48研究所
国际刊号:1003-8213
国内刊号:43-1140/TN
创刊时间:1983
所属类别:电子类
发行周期:双月刊
发行地区:湖南
出版语言:中文
预计审稿时间:3-6个月
复合影响因子:0.19
总被引量:870
H指数:13
期刊他引率:1
  • 基于MEMS的微推进系统的研究现状与展望

    作者:尤政; 张高飞 刊期:2004年第01期

    重点介绍了目前国内外各种MEMS微推进系统的研究现状和不同微推进系统的技术特点,阐述了基于MEMS技术的微推进系统基本特征,并分析了MEMS微推进系统的发展趋势和面临的挑战.

  • 碳纳米管在微机电系统(MEMS)中的应用研究

    作者:叶雄英; 郭琳瑞; 周兆英 刊期:2004年第01期

    碳纳米管研究的不断发展为其与微机电系统(MEMS)的结合提供了可能,这种结合"Top-down"与"Bottom-up"的方法是微米/纳米技术的一个发展趋势.介绍了碳纳米管的特性及其在MEMS上的潜在应用,综述了碳纳米管的制备方法以及与MEMS技术的兼容性,列举了目前一些碳纳米管与MEMS结合研究的典型,并对其发展趋势进行了分析.

  • 基于电子束光刻的LIGA技术研究

    作者:孔祥东; 张玉林; 魏守水 刊期:2004年第01期

    提出了基于电子束的LIGA(Líthographíe,Galvanoformung,Abformung)技术新概念.根据Grune公式就电子束能量对抗蚀剂刻蚀深度的影响进行了理论分析,并在SDS-2电子束曝光机上分别采用5 keV、10 keV、15 keV、20keV、25 keV、30 keV等能量的电子束对国产胶苏州2号进行了曝光实验,得出了能量/刻蚀深度关系曲线.用5 keV、30 keV两种能量的电子束,通过...

  • 《微细加工技术》加入“中国期刊网”声明

    刊期:2004年第01期

  • DY-2001A型纳米级电子束曝光机中静电偏转器的设计

    作者:刘珠明; 顾文琪; 李艳秋 刊期:2004年第01期

    基于纳米曝光要求和JSM-35CF型扫描电镜,设计了一组上下偏转器长度不一致的静电偏转器,使偏转灵敏度大大提高.采用二阶有限元法计算了八极静电偏转器的轴上场分布.高精度的场分布有利于高级像差.为了使系统的总体像差最小,结合具体电子光学系统,用最小二乘法对偏转器的激励强度、转角及其在系统中的位置进行优化,得到直至五级分量的像差.动态校...

  • 光学编码器在离子注入机中的应用

    作者:孙勇; 罗宏洋; 龙娟 刊期:2004年第01期

    具有高度自动控制功能的离子注入机能够实现精确的测量晶片在片盒中的位置、控制晶片的装卸及晶片在靶盘上的定位等系列功能.光学编码器作为一种高精度的传感器是实现其机电一体化的关键部件之一.主要介绍了光学编码器的基本原理及其在控制系统中的应用,分析了其引起系统位置偏差及故障的原因.

  • 准分子激光加工球面调制靶工艺研究

    作者:时涛; 杜润生 刊期:2004年第01期

    介绍了空心玻璃微球(HGM)的液滴法制备及其相关评测技术;针对HGM的特点和球面调制靶的制备要求,结合现有的准分子激光加工技术,对加工激光束参数的确定、光学系统的构建以及具体的加工过程进行了研究.提出了一种采用准分子激光刻蚀技术加工制备球面调制靶的具体工艺方案.

  • 不同波段近紫外光在SU—8胶中穿透深度的研究

    作者:李雄; 徐智谋; 易新建; 何少伟; 刘胜; 连昆 刊期:2004年第01期

    通过对SU-8胶近紫外波段下透射光谱的分析,得到不同波长近紫外光在SU-8胶中的穿透深度,并分析了不同波段近紫外光对SU-8胶微结构的影响,结果表明穿透深度大的近紫外波段曝光出来的图形质量好,深宽比大,侧壁陡直.

  • 溅射法制备高取向Pt薄膜的工艺研究

    作者:鲁健; 吴建华; 赵刚; 王海; 褚家如 刊期:2004年第01期

    采用射频磁控溅射工艺在SiO2/Si衬底上成功制备了适用于PZT铁电薄膜底电极的180 nm厚、沿(111)晶向强烈取向的Pt薄膜.厚约50 nm的Ti膜被用作过渡层,以增强Pt薄膜与衬底之间的黏着性.实验表明,在Pt薄膜的制备过程中,较高的衬底温度有利于薄膜晶化,促使Pt薄膜沿(111)晶向择优取向生长.而在薄膜沉积后加入适当的热处理工艺,能有效地提高Pt薄膜的择...

  • 离子束增强沉积VO2多晶薄膜的成膜机理

    作者:李金华; 袁宁一 刊期:2004年第01期

    用离子束增强沉积制备高性能VO2薄膜,在溅射V2O5粉末靶的同时,用氩、氢混合束对沉积膜作高剂量离子注入,然后经500℃以上的退火,获得热电阻温度系数(TCR)高达4%的VO2薄膜.成膜机理是:利用高剂量氩离子注入的损伤效应使V2O5的V-O键断裂;利用注入氢的还原效应将V2O5转换成VO2薄膜;利用混合效应使界面结合牢固、薄膜结构均匀;利用掺杂效应,使氩出现...

  • 集成微热沉系统的设计和制作

    作者:吴慧英; 郑平 刊期:2004年第01期

    研究了将冷却微通道、微型测温元件以及微型发热元件集成在同一张单晶硅片上的设计和制作方法,同时讨论了由掺磷多晶硅制成的测温元件和发热元件的电阻温度特性,并给出微型测温元件的电流/温度曲线,以及微型发热元件的热流/电压曲线.该集成微热沉系统可用于微电子芯片的发热模拟以及微热沉冷却性能的实验研究.

  • 基于MEMS技术的PDMS电泳微芯片的研制

    作者:刘长春; 崔大付; 赵强; 王利; 王蕾 刊期:2004年第01期

    介绍了一种基于MEMS技术的PDMS电泳微芯片,该芯片主要由三部分组成:集成了高压电极的玻璃基底、PDMS薄膜以及刻有微流路的PDMS板.利用lift-off工艺,在玻璃基底上制作了为电泳分离提供高压的Pt电极.为了提高PDMS微芯片的密封效率,同时也为了保持微流路材料的一致性,通过挤压法首先在玻璃基底上形成了一层PDMS薄膜.电泳分离实验表明:在该微芯片上...

  • 采用实心铁磁体的磁悬浮工作台的系统辨识

    作者:毛军红; 高琳; 李黎川 刊期:2004年第01期

    在超精密磁悬浮工作台中,作为衔铁被悬浮的工作台,如果可以不采用硅钢片而直接使用实心铁磁材料,则可以大大简化加工工艺,并提高工作台的刚度,但实心铁磁材料的电涡流效应对工作台性能的影响需要由实验加以确定.针对这一问题,对一个工作台采用电工纯铁的实际系统进行了研究.实验数据及系统辨识表明,由于电涡流效应,实际物理系统的特性与理论模型...

  • 磁悬浮转子微陀螺的微细加工工艺研究

    作者:吴校生; 陈文元; 赵小林; 张卫平; 何淼 刊期:2004年第01期

    介绍了磁悬浮转子微陀螺的工作原理及有关的微细加工工艺.磁悬浮转子微陀螺的平面线圈是采用光刻、电镀及溅射等微细加工方法来实现的,微转子的加工有冲压、蒸铝沉积等方法,其中冲压能得到质量较好的微转子;上壳体采用体硅腐蚀来制作.初步的实验表明该方案是行之有效的.

  • 基于MEMS技术的射频移相器

    作者:张永华; 丁桂甫; 蒋振新; 蔡炳初; 沈民谊 刊期:2004年第01期

    微波与毫米波移相器是通讯和雷达应用上相控阵天线的基本单元,MEMS技术的引入提供了一个在移相器设计中用最小损耗的开关来大量减少移相器插入损耗的方法,该方法可以降低器件的功耗,改善插入损耗、隔离度、频带宽度等性能.相比于GaAs移相器,基于MEMS开关的射频移相器,无论是开关线型、分布式或是反射型,都有很好的RF性能.