微纳电子技术

微纳电子技术杂志 北大期刊 统计源期刊

Micronanoelectronic Technology

杂志简介:《微纳电子技术》杂志经新闻出版总署批准,自1964年创刊,国内刊号为13-1314/TN,是一本综合性较强的科技期刊。该刊是一份月刊,致力于发表科技领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目:技术论坛、材料与结构、MEMS与传感器、加工、测量与设备

主管单位:中国电子科技集团公司
主办单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
国际刊号:1671-4776
国内刊号:13-1314/TN
全年订价:¥ 244.00
创刊时间:1964
所属类别:科技类
发行周期:月刊
发行地区:河北
出版语言:中文
预计审稿时间:1-3个月
综合影响因子:0.44
复合影响因子:0.45
总发文量:1755
总被引量:5170
H指数:19
引用半衰期:4.2639
立即指数:0.0139
期刊他引率:0.9041
平均引文率:16.2222
  • THz InP HEMT和HBT技术的最新研究进展

    作者:王淑华 刊期:2018年第06期

    概述了太赫兹(THz)InP技术的优势、应用前景及美国的发展规划。重点对国外THzInP高电子迁移率晶体管(HEMT)和异质结双极晶体管(HBT)的技术进展和突破进行了详细阐述,其中国外HEMT和HBT器件的工作频率都达到了1THZ以上,国外报道的650GHz以上的InP太赫兹单片集成电路(TMIC)很多,包括低噪声放大器和功率放大器等,并且性能优异。介绍了...

  • 大功率分布反馈半导体激光器研究进展

    作者:李杨; 冯源; 李洋; 张昕; 岳光礼; 王志伟; 谢检来; 王霞; 郝永芹 刊期:2018年第06期

    介绍了分布反馈半导体激光器(DFB-LD)的工作原理,分析了不同的光栅阶数及耦合机制对DFB-LD激光输出特性的影响。重点评述了大功率DFB-LD研究发展状况,从结构特性及技术手段等方面详细分析了不同技术方案的优势与不足:大功率二次外延DFB-LD对光栅和有效光场耦合较好,但二次外延对技术控制精度要求极高且会引入缺陷;表面金属光栅边发射DFl3...

  • Cu2O颗粒的制备及其吸附性能

    作者:相文峰; 孙睿; 姚江峰; 董子斌; 陈少华; 赵嵩卿; 周广刚 刊期:2018年第06期

    通过液相还原法制备了Cu2O颗粒,利用扫描电子显微镜(SEM)以及X射线衍射(XRD)等手段对粒径的大小、微结构以及组分进行了测试和分析。测试结果表明:Cu2O颗粒为组分单一、表面含有大量孔隙的八面体结构。颗粒的粒径大小并不均匀,分布在几十纳米到1微米之间。同时研究了Cu2O颗粒的吸附特性,发现Cu2O颗粒对甲基橙具有良好的吸附能力。在吸附...

  • 基于多苯烯丙基醚无氟抗粘的巯基-烯纳米压印光刻胶

    作者:李桃; 廖兵; 韦代东; 汪慧怡; 雍奇文; 罗业燊; 庞浩 刊期:2018年第06期

    为了减小纳米压印光刻胶与模板间的接触黏附力,合成了一种无氟抗粘巯基一烯纳米压印光刻胶。以A,A,A’-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯(TPA)和溴丙烯为原料,采用相转移催化法制备了一种功能性单体A,A,A’-三(4-丙烯基苯基醚)-1-乙基-4-异丙苯(TPAE),并将其按特定配比与三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)和光引发剂配制成纳米压印光...

  • SOI高温压阻式压力传感器的设计与制备

    作者:李鑫; 梁庭; 赵丹; 雷程; 杨娇燕; 李志强; 王文涛; 熊继军 刊期:2018年第06期

    设计并制备了一种基于绝缘体上硅(SOI)材料、量程为5Pa~1.8MPa的压阻式压力传感器。在设计方面,通过有限元分析软件和经典理论相结合分析敏感膜片的力学性能和电学性能,得到敏感膜片的尺寸和表面电势的分布;在工艺方面,设计了基于标准微电子机械系统(MEMS)工艺的制作流程;在芯片的封装方面,为保证敏感芯片与外界的电气互连,采用了...

  • 平面氧化硅光波导环形谐振腔的温度特性

    作者:郭慧婷; 唐军; 钱坤; 张成飞 刊期:2018年第06期

    温度变化会在氧化硅光波导谐振腔中引起极化误差,该极化误差所引起的偏振波动噪声是限制谐振式集成光学陀螺长期稳定性的主要因素。通过对反射式和透射式两种结构的谐振腔分别进行主动温控实验,成功测得了谐振腔的温度特性,并对其进行了详细分析。由实验分析结果可知:随着光波导谐振腔的温度变化,两种结构的谐振腔谐振曲线的峰值都呈周期性...

  • 一种基于微熔技术的MEMS大量程压力传感器

    作者:卞玉民; 鲁磊; 杨拥军 刊期:2018年第06期

    基于半导体硅的压阻效应,研制了一种MEMS大量程压力传感器。为了实现大量程压力测量,采用了不锈钢材质制作了压力敏感膜片。利用有限元分析软件对传感器敏感芯体进行了结构建模仿真分析和优化设计。采用玻璃微熔技术将敏感电阻粘结固定在不锈钢敏感膜片上。利用成熟的微电子机械系统(MEMS)加工工艺,完成了可以在高温下工作的绝缘体上硅(SO...

  • 原子层沉积制备氮化钛薄膜及其表征

    作者:胡磊; 石树正; 孙雅薇; 乔骁骏; 何剑; 穆继亮; 丑修建 刊期:2018年第06期

    宽禁带半导体TiN作为扩散阻挡层以及场效应管的门电极在集成电路中发挥重要作用。通过原子层沉积(atomic layer deposition,ALD)技术沉积不同循环次数TiN薄膜,采用四探针测试仪、台阶仪、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)对薄膜进行了表征,确定了薄膜电阻率、生长速率、表面粗糙度与工艺条件的依赖关系。实验结果表明,ALD可实...

  • 碱性CMP表面活性剂对硅衬底表面状态的影响

    作者:洪姣; 刘国瑞; 牛新环; 刘玉岭 刊期:2018年第06期

    主要研究了硅衬底碱性精抛液中表面活性剂对硅衬底表面粗糙度、表面缺陷以及抛光雾的影响。实验结果表明,随着硅衬底精抛液中表面活性剂体积分数由0%增加到1%,表面粗糙度和表面缺陷数量都呈现出迅速降低的变化趋势,表面活性剂对降低表面粗糙度和减少表面缺陷效果明显。但是当表面活性剂体积分数大于5%时,抛光后硅衬底的表面粗糙度和表面...

  • 仿生增材制造

    作者:周伟民; 夏张文; 王涵; 闵国全 刊期:2018年第06期

    仿生增材制造(仿生3D打印)是指受到生物结构和功能的启发而设计出具有仿生结构和功能的三维图形的一种新技术,采用增材制造工艺加工而成的构件具有特殊的仿生性能。结合现有的研究进展,从形态仿生、结构仿生、功能仿生等角度出发,重点介绍了仿生增材制造在仿生器件(仿生器官模型、仿生导板器械和植入物、仿生组织工程支架以及仿生组织器官...

  • 大尺寸β-Ga2O3晶片的机械剥离及性能

    作者:练小正; 张胜男; 程红娟; 王健; 齐海涛; 陈建丽; 徐永宽 刊期:2018年第06期

    针对β—Ga2O3单晶易解理的特性,研究了晶体形状对其(100)主解理面的机械剥离影响。结果表明,棱角较为平缓的体单晶机械剥离时容易出现碎裂,而棱角尖锐的体单晶极易实现机械剥离,并且成功剥离出尺寸大于30mm×10mm的β-Ga2O3单晶片。测试了剥离的β-Ga2O3单晶片微观形貌、表面粗糙度、晶体质量以及位错。结果显示,剥离的β-Ga2O3单晶片具有高...

  • 钨酸锰纳米线的水热法制备与表征

    作者:王永刚; 杨琳琳; 王玉江; 韩高荣 刊期:2018年第06期

    以MnCl2,MnC2O4和Na2WO4为反应前驱体,以KOH为矿化剂,在没有采用任何表面活性剂和模板的条件下,采用水热法成功制备出MnWO4晶体。用X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)对制备出的MnWO4晶体的结构和形貌进行了表征,并对MnWO4晶体的形成机理进行了初步探讨。结果表明,反应前驱体和pH值可以控制MnWO4晶体的一维取向生长。当以MnCl2作为...

  • 第十一届中国微纳电子技术交流与学术研讨会会议通知(第一轮)

    刊期:2018年第06期

    为进一步推动我国微纳电子技术的快速发展,为大家提供一个了解国内外微纳电子技术最新发展动态的交流平台,第十一届”中国微纳电子技术交流与学术研讨会”定于2018年7月23-25日在贵阳市举行。为便于会议内容的审定和作为会议资料之一的《论文摘要文集》的印制,如您有报告或论文参会。