杂志简介:《微纳电子技术》杂志经新闻出版总署批准,自1964年创刊,国内刊号为13-1314/TN,是一本综合性较强的科技期刊。该刊是一份月刊,致力于发表科技领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目:技术论坛、材料与结构、MEMS与传感器、加工、测量与设备
作者:张永强; 解光军; 吕洪君 刊期:2016年第08期
基于量子元胞自动机(QCA)电路,通过贝叶斯网络(Bayesian network,BN)对7种不同的传输线建模,研究了基本传输线的输出正确率随温度的变化规律。另外,通过概率转移矩阵(PTM)研究了7种不同结构的全加器的整体可靠性和输出Si以及进位输出Ci+1的平均输出错误率随错误因子的变化规律,并研究了各器件单元对全加器整体可靠性的影响。仿真结果表明...
作者:王琳; 潘开林; 左锋; 韦志川 刊期:2016年第08期
简单介绍了可延展柔性电子互连结构的结构、力学等特性以及实现可延展柔性电子互连结构延展性的方法。从结构设计和力学特性等方面对可延展柔性电子互连结构进行了分析。针对目前可延展柔性电子互连结构在实现延展性时功能器件有效表面占有率过低的问题,介绍了本课题组的仿真分析研究。首先分析了可延展柔性电子典型互连结构,即结构性基底的结构...
作者:张金英; 杨天辰; 何秀丽; 高晓光; 贾建; 李建平 刊期:2016年第08期
设计并制备了一种基于负电晕放电原理及微机电系统(MEMS)技术的多针-板型气体传感器。研究了电极间距对传感器放电特性的影响,综合考虑起晕电压、信号输出范围及稳定放电范围,优化电极间距为120μm。测试了传感器在体积分数均为6×10~(-4)的乙酸、异丙醇、乙醇和丙酮四种有机气体中的放电特性,传感器对乙酸气体响应最灵敏。测试了传感器在-0.9...
作者:樊天麒; 杨真; 雷冲; 周勇 刊期:2016年第08期
采用键合、光刻和电镀等微机电系统(MEMS)微细加工技术制备了不同结构的微型化Co基薄带。微型化Co基非晶薄带采用VACUUMSHMELZE公司生产的VC6025Z型材料,其结构设计为曲折型不同匝数(1~3匝)。在1~40 MHz频率内,研究了外加磁场的方向以及传感器的匝数对巨磁阻抗(GMI)效应的影响。研究发现,巨磁阻抗效应均呈现负值,这与材料本身具有较大的矫...
作者:冯辰; 刘同冈; 商金玮; 赵志强 刊期:2016年第08期
相对于传统机械而言,微机电系统(MEMS)器件的摩擦磨损问题显得更加突出,对MEMS的摩擦磨损进行研究,并提供有效的润滑手段是保证其设备功能和使用寿命的关键。针对开展MEMS微观摩擦磨损研究的需要,概述了常用的微观摩擦磨损测试仪器,包括扫描隧道显微镜(STM)、原子力显微镜(AFM)、摩擦力显微镜(FFM)等探针类实验装置以及球-盘式、销-盘式...
作者:杜小振; 张龙波; 于红 刊期:2016年第08期
环境振动能量收集装置替代传统化学电池为低功耗系统供能具有诸多优点,分析表明其输出功率仅在谐振状态输出高电能,受环境频变影响较大。拓宽采集设备谐振频带、匹配环境随机振动频率对提高输出功率更具实际意义。研究结果表明,系统拾振敏感结构的悬臂梁刚度和有效振动质量是影响微电源系统固有频率的关键因素,当前调频方式主要分为机械和电气两...
作者:许鹏; 王帆; 董冰玉 刊期:2016年第08期
介绍了一种低成本自适应的微机电系统(MEMS)陀螺温度补偿方法。基于自主研发的一款集成化硅MEMS振动陀螺,分析了陀螺温度漂移的原因。研究了降低MEMS陀螺温度误差的方法,设计了一种基于Atmega32单片机的低成本补偿电路,建立了陀螺温度补偿模型,提出了补偿方法。该方法通过变温法采集MEMS陀螺输出,对信号进行快速傅里叶变换(FFT)滤波处理,然...
作者:原作兰; 刘淑杰; 张元良 刊期:2016年第08期
针对广域光-接触多探针方法测量光刻胶表面形貌的需要,设计制作了Si基Si_3N_4弹性膜独立多探针,该探针呈9×9二维阵列分布。先利用ANSYS有限元软件分析探针Si_3N_4弹性薄膜的厚度和面积尺寸对探针测量范围的影响规律,得到了优化的几何参数。然后基于仿真结果,运用微机电系统(MEMS)技术中的硅基工艺、薄膜工艺和光刻工艺完成了多探针硅杯的腐蚀...
作者:熊辉; 魏爱香; 刘俊; 招瑜 刊期:2016年第08期
采用溶剂热合成技术,以乙醇为溶剂,以氯化锌、氯化亚锡、氯化铜和硫脲为反应剂,以草酸为还原剂,以十六烷基三甲基溴化铵为阳离子表面活性剂,直接在透明导电玻璃(FTO)衬底上制备Cu_2ZnSnS_4(CZTS)半导体纳米晶薄膜。采用X射线衍射(XRD)、喇曼光谱、透射电镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见光谱研究了反应温度对CZTS纳米晶薄膜的...
作者:牛新环; 王建超; 赵欣; 腰彩红 刊期:2016年第08期
针对光学石英玻璃在表面化学机械抛光(CMP)过程中易出现表面及亚表面损伤和蚀坑等缺陷问题,提出了采用低抛光压力和低磨料体积分数的CMP方法。机械作用是引起表面及亚表面损伤的关键因素,低抛光压力可以有效降低抛光过程中施于晶体表面的机械作用,抛光液中低磨料体积分数既可降低一定的机械作用又可降低由于高磨料体积分数引起的表面沾污。在...
作者:洪姣; 牛新环; 刘玉岭; 王辰伟; 王如; 孙鸣; 高宝红; 岳昕; 李祥州; 李月 刊期:2016年第08期
主要研究了低磨料质量分数阻挡层抛光液的抛光性能,并将其与商用抛光液进行了对比。由实验结果可以看出,当固定抛光液中的磨料质量分数时,铜的去除速率随着磨料粒径的减小而升高。当固定磨料粒径不变时,铜的去除速率随着磨料质量分数的升高而迅速升高,而钽略有升高但不明显。当磨料质量分数为5%时,铜和钽的去除速率选择比最优。通过对比实验可以...
刊期:2016年第08期
http://www.ICSICT.com 2016年10月25—2 8日,白马湖建国宾馆,杭州第十三届IEEE固态和集成电路国际会议(International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology,IEEE ICSICT)将于2016年10月25—28日在杭州召开,本次会议由IEEE北京分会和复旦大学主办。