微纳电子技术

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Micronanoelectronic Technology

杂志简介:《微纳电子技术》杂志经新闻出版总署批准,自1964年创刊,国内刊号为13-1314/TN,是一本综合性较强的科技期刊。该刊是一份月刊,致力于发表科技领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目:技术论坛、材料与结构、MEMS与传感器、加工、测量与设备

主管单位:中国电子科技集团公司
主办单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
国际刊号:1671-4776
国内刊号:13-1314/TN
全年订价:¥ 244.00
创刊时间:1964
所属类别:科技类
发行周期:月刊
发行地区:河北
出版语言:中文
预计审稿时间:1-3个月
综合影响因子:0.44
复合影响因子:0.45
总发文量:1755
总被引量:5170
H指数:19
引用半衰期:4.2639
立即指数:0.0139
期刊他引率:0.9041
平均引文率:16.2222
  • 石墨烯纳米带场效应管结构优化

    作者:赵磊 赵柏衡 常胜 王豪 黄启俊 刊期:2013年第08期

    石墨烯纳米带场效应管(graphene nanoribbon field effect transistor, GNRFET)作为后硅基时代集成电路基础器件的有力竞争者受到广泛关注。以数字电路应用为指向,基于密度泛函理论的计算仿真,对GNRFET的结构设计优化进行了研究。分析了宽度N=3m和N=3m+1(m为正整数)两系列半导体型石墨烯纳米带的传输特性,结果表明N=3m系的扶手椅型石墨...

  • 在DNA网络模板上原位合成金纳米颗粒

    作者:杨涛 杨超 童洲 刊期:2013年第08期

    报道了一种利用DNA网络为模板原位合成金纳米颗粒的方法。利用AuCl2阴离子和DNA碱基间的配位作用,使AuCl2结合到预先制备好的DNA网络模板上,然后还原AuCl2,在DNA模板上原位合成具有良好分散性的金纳米颗粒。通过在水溶液中以DNA为稳定剂的金纳米颗粒的成功合成,间接证明了DNA网络上合成的颗粒物为金纳米颗粒。原子力显微镜表征说明,DNA网络...

  • MEMS薄膜塞贝克系数的测试结构研究进展

    作者:张晓强 李伟华 周再发 刊期:2013年第08期

    综述了微电子机械系统(MEMS)薄膜塞贝克系数的测试结构。首先介绍了塞贝克效应在MEMS领域的广泛应用,简述了测试MEMS薄膜塞贝克系数的目的和意义。然后详细列举了四类典型的MEMS薄膜塞贝克系数的测试结构,包括平面结构、纵向结构、微电子机械结构和纳米结构,并从测试结构的制作工艺、测量的准确性和精确度等方面对四类测试结构的优劣和适用...

  • 一种集成式硅MEMS振动陀螺仪

    作者:李博 杨拥军 徐永青 徐淑静 胥超 何洪涛 罗蓉 卢新艳 刊期:2013年第08期

    介绍了一种集成式硅MEMS振动陀螺仪。首先阐述了MEMS振动陀螺仪的工作原理;在此基础上,介绍了陀螺敏感结构形式:采用双端固定音叉结构,差分检测,实现对外界角速率的敏感,给出了结构设计和有限元(FEM)仿真结果;加工工艺采用圆片级真空封装SOI工艺,介绍了工艺流程;检测电路采用数字化ASIC电路,给出了电路原理框图;采用LCC30陶瓷外壳...

  • AlN压电薄膜的制备工艺

    作者:陈颖慧 王旭光 席仕伟 施志贵 姚明秋 刊期:2013年第08期

    采用射频反应磁控溅射法制备了AlN压电薄膜,并分析了制备条件对AlN薄膜性能的影响。为了确定C轴择优取向生长AlN薄膜的制备工艺参数,设计了关于溅射功率、衬底温度、氮氩体积比和气氛压强这四个参数的工艺实验,研究了不同的工艺条件对AlN薄膜质量的影响。采用X射线衍射(XRD)图谱分析了薄膜的晶格结构和摇摆曲线半高宽,采用原子力显微镜(A...

  • 微流体系统中微通道制作工艺的研究进展

    作者:张高朋 田桂中 曹伟龙 刊期:2013年第08期

    微通道作为决定微流体系统性能的关键元件,其制作材料、工艺与装备是微机械领域的研究热点。现有微通道制作材料主要有硅及其氧化物、玻璃、聚合物三种。综述了不同材料微通道制作工艺的国内外研究现状,包括光刻、腐蚀、热压印、软化拉伸和键合等方法。讨论了现有微通道制作工艺及其设备的特征与不足,工艺过程涉及精密机械加工、化学处理、工...

  • 一种获得纳米间隙电极的接触光刻方法

    作者:张玉龙 张艳 蒋书森 刊期:2013年第08期

    提出一种称之为“阵列误差光刻”的方法。采用两次接触光刻和两次金属剥离工艺,形成两组顶端相对的电极阵列,利用第二次接触光刻时的对准误差,在这两组电极之间按照概率分布形成了一个最小的纳米间隙。设计并制作了一种含有16对电极的验证器件,按照光刻对准误差的范围为±2.0μm进行估算,理论上最小间隙的分布范围为0~150nm。通过扫描电镜...

  • 用于自对准SiMMIC的等平面深槽隔离工艺

    作者:苏延芬 梁东升 胡顺欣 邓建国 刊期:2013年第08期

    研究了在自对准硅MMIC中等平面深槽隔离工艺的实现。该工艺包括如下过程:首先应用各向异性刻蚀的Bosch工艺刻蚀出用于隔离埋集电极的1.6μm宽、9μm深的隔离槽,接着对隔离槽通过热氧化二氧化硅、淀积氮化硅和多晶硅的形式进行填充,然后再采用高密度等离子体刻蚀设备对多晶硅进行反刻,其刻蚀时间通过终点检测系统来控制,最后再刻蚀出0.8μm深...

  • 一种真空度可调的圆片级封装技术

    作者:罗蓉 刊期:2013年第08期

    提出了一种MEMS器件的圆片级封装技术。通过金硅键合和DRIE通孔制备等关键工艺技术,可以实现真空度从10^2Pa到2个大气压可调的圆片级封装。作为工艺验证,成功实现了圆片级真空封装MEMS陀螺仪的样品制备。对封装后的陀螺仪样品进行了剪切力和品质因数Q值测试,剪切力测试结果证明封装样品键合强度达到5kg以上,圆片级真空封装后陀螺的品质因数Q...

  • 技术

    刊期:2013年第08期

    Laser Light Technologies的高精度激光微细加工技术 Laser Light Technologies公司总部设在美国密苏里州的赫尔曼,是一家专业从事定制式高科技激光微加工研发和服务的公司,可组合光谱的每一个波长制作微小的零部件用于多种领域,如航空航天、汽车、医疗、生物技术、能源、微流体和半导体行业。

  • PMF2000传感器刷新性能标准

    刊期:2013年第08期

    Posifa Microsystems公司推出了新型空气流量传感器,即PMF2000传感器系列产品,其中一款实物照片如图1所示。该系列产品融合了最新的MEMS和微电子技术,解决了多年来一直困扰制造商的由压力振动、湿度和污染等因素引起的失效问题。

  • 市场

    作者:王玲(编译) 刊期:2013年第08期

    InvenSense公司专利Nasiri制作平台 InvenSense公司专为消费电子产品提供MotionTracking^TM器件,其突破传统MEMS技术,推出了专利Nasiri制作平台(图1),改变了行业发展策略,可为更多的MEMS开发商所利用。