微纳电子技术

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Micronanoelectronic Technology

杂志简介:《微纳电子技术》杂志经新闻出版总署批准,自1964年创刊,国内刊号为13-1314/TN,是一本综合性较强的科技期刊。该刊是一份月刊,致力于发表科技领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目:技术论坛、材料与结构、MEMS与传感器、加工、测量与设备

主管单位:中国电子科技集团公司
主办单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
国际刊号:1671-4776
国内刊号:13-1314/TN
全年订价:¥ 244.00
创刊时间:1964
所属类别:科技类
发行周期:月刊
发行地区:河北
出版语言:中文
预计审稿时间:1-3个月
综合影响因子:0.44
复合影响因子:0.45
总发文量:1755
总被引量:5170
H指数:19
引用半衰期:4.2639
立即指数:0.0139
期刊他引率:0.9041
平均引文率:16.2222
  • GaN HFET的沟道夹断特性和强电场下的电流崩塌

    作者:薛舫时; 陈堂胜 刊期:2006年第10期

    从自洽求解二维泊松方程和薛定谔方程出发,研究了纵、横向电场作用下GaNHFET沟道中的电子态和夹断特性。建立了不同异质结构和电场梯度下的电荷控制模型;运用热电子隧穿电流崩塌模型解释了强场电流崩塌的实验结果;强调了沟道夹断特性对电流崩塌的影响;研究了背势垒异质结构、场板电极和挖槽等抑制电流崩塌的方案,提出利用挖槽独立设计内、...

  • 微纳级双极晶体管的热耗散研究

    作者:侯志刚; 李惠军; 许新新 刊期:2006年第10期

    对于双极性晶体管,由于自身存在的自加热现象,严重地影响着器件的特性。基于热电流方程、泊松方程及电流密度方程,在二维器件仿真环境下,进行了微纳级小尺寸npn双极性晶体管热现象的器件物理特性分析。重点研究了器件的集电极电流IC与晶格温度T的因变关系。研究结果显示,随着IC的增加,器件的晶格温度逐渐升高,VCE保持在3.0V、VBE达到最...

  • 低k介质与铜互连集成工艺

    作者:孙鸣; 刘玉岭; 刘博; 贾英茜 刊期:2006年第10期

    阐明了低κ介质与铜互连集成工艺取代传统铝工艺在集成电路制造中所发挥的关键作用。依照工艺流程,介绍了如何具体实现IC制造多层互连工艺:嵌入式工艺、低κ介质与平坦化、铜电镀工艺与平坦化;阐述了工艺应用现况与存在的难题,给出了国际上较先进的解决方法。

  • 空心微球结构材料的制备及应用

    作者:王虹; 廖学红 刊期:2006年第10期

    综述了国内外空心微球结构材料的制备方法,包括自组装法、模板-界面聚合法、喷雾反应法、乳液法等。对空心微球结构材料在不同领域中的最新研究进展做了评述。

  • 提高Si量子点发光强度的途径

    作者:康建波; 彭英才; 简红彬; 马蕾; 张雷 刊期:2006年第10期

    探讨了提高Si量子点发光强度的可能途径。这些方法主要包括:采用高密度和小尺寸的有序Si量子点、光学微腔结构、表面钝化处理技术和稀土发光中心掺杂。

  • 基于MEMS的生物微喷点样技术研究现状与展望

    作者:乔治; 金庆辉; 许宝建; 程建功; 赵建龙; 杨梦苏 刊期:2006年第10期

    基于MEMS的生物微喷点样技术研究是当今药物分配领域中的热点。与传统方法相比,微喷点样技术具有体积小、操作简便、速度快等优点。对近几年微喷点样技术的研究新进展进行了综述,按照驱动方式的不同对各种微喷点样技术进行了分类,并分别阐述了各自不同的制作方法,最后分析了MEMS微喷点样技术所面临的挑战和发展趋势。

  • 脑神经电信号提取专用电极芯片的设计研究

    作者:黄群峰; 凌朝东 刊期:2006年第10期

    介绍了能提取脑电信号电路系统研制的重要性和可能性。通过把最新的微电子技术运用到脑电生物信号的提取领域,提出了一种用于脑神经电信号提取的电极芯片的解决方案,并对方案中所涉及的关键技术和系统组成模块进行了分析讨论。

  • 纳米生物技术

    刊期:2006年第10期

    纳米生物技术是融生物技术与纳米技术于一体,并着眼于与电子应用领域相融合的新技术,包括“向生物学习”和“模仿生物”两种手法。即利用纳米生物材料具有的自组装和“复制与生长”等特性,

  • 紫外纳米压印技术的图形转移层工艺研究

    作者:朱兆颖; 乌建中; 顾长庚; 刘彦伯 刊期:2006年第10期

    研究了紫外纳米压印技术的图形转移层工艺,通过改变膜厚进行压印对比实验,将转速控制在3000-4000r/min,成功地得到了50nm光栅结构询高保真图形,复型精度可以达到93.75%。同时阐明,纳米压印技术由于具有超高分辨率、低成本、高产量等显著特点,将成为下一代光刻技术(NGL)的主要候选者之一。

  • CLBO晶体化学机械抛光技术的研究

    作者:武晓玲; 刘玉岭; 贾英茜; 鲍云英 刊期:2006年第10期

    介绍了硼酸锂铯(CLBO)晶体的应用前景及在化学机械抛光过程中存在的问题,简要分析了晶体在常温下开裂的机理,选用无水溶剂对晶体进行化学机械抛光以防止加工过程中晶体的潮解开裂。分析了抛光液、压力、温度、pH值参数对抛光过程的影响,通过合适配比使速率可达1.5-2μm/min,且表面质量较好。

  • 纳米材料的测试与表征

    作者:常同钦 刊期:2006年第10期

    介绍了纳米材料的特性及测试与表征。综合使用各种不同的分析和表征方法,可对纳米材料的结构和性能进行有效研究。

  • 业界快讯

    刊期:2006年第10期

    自旋波研究中的新突破;IBM用单碳纳米管制作出环型振荡器;Magma(R)与SMIC共同推出90nm先进IC低低功耗制程参考流程。