根据最新信息《Recent Patents On Nanotechnology》期刊在JCR分区中的排名如下：
按JIF指标学科分区学科为MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY，收录子集：SCIE，位于Q3区，排名292 / 438，百分位33.4%；NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收录子集：SCIE，位于Q4区，排名109 / 140，百分位22.5%；PHYSICS, APPLIED，收录子集：SCIE，位于Q3区，排名114 / 179，百分位36.6%；按JCI指标学科分区在学科为MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY，收录子集：SCIE，位于Q4区，排名355 / 438，百分位19.06%NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收录子集：SCIE，位于Q4区，排名119 / 140，百分位15.36%PHYSICS, APPLIED，收录子集：SCIE，位于Q4区，排名151 / 179，百分位15.92%。
投稿咨询| 按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 292 / 438 |
33.4% |
| 学科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 109 / 140 |
22.5% |
| 学科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 114 / 179 |
36.6% |
| 按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q4 | 355 / 438 |
19.06% |
| 学科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 119 / 140 |
15.36% |
| 学科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 151 / 179 |
15.92% |
这表明该刊在材料科学：综合领域具有较高的学术影响力和认可度。此外，该刊创刊时间：2007年，影响因子：2，出版周期：3 issues/year、出版商：Bentham Science Publishers B.V.以及收录情况等信息也为其学术影响力提供了有力支持。
影响因子：是汤森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引证报告(Journal Citation Reports,JCR)中的一项数据，现已成为国际上通用的期刊评价指标，不仅是一种测度期刊有用性和显示度的指标，而且也是测度期刊的学术水平，乃至论文质量的重要指标。
声明：以上信息摘自网络公开资料，如有不准确，请联系我们。
