首页 期刊 机电工程技术 美国Cymer将面向液浸曝光的高功率激光设备 【正文】

美国Cymer将面向液浸曝光的高功率激光设备

激光设备   高功率   曝光   面向   美国  

摘要:美国Cymer公司将在“2005年国际半导体设备与材料展览会(SEMICON West 2005)”上,面向45nm工艺(hp65)液浸曝光的高功率ArF准分子激光设备“XLA 300”。

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