摘要：浸没式光刻要实现32纳米技术乃至进一步向下延伸，在高折射率液体，光学镜头以及光刻胶等关键技术领域需要要不断取得突破性的进展。为了得到更高的分辨率，超高数值孔径浸没式光刻技术势在必行，由此而产生的光学偏振问题会日益突出，现在光刻领域的专家已经开始着手解决这个问题。

注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社