首页 期刊 半导体信息 美国开发一种新的砷化镓晶圆蚀刻法 【正文】

美国开发一种新的砷化镓晶圆蚀刻法

作者:郑冬冬
砷化镓   蚀刻法   制造速度   伊利诺大学   软光刻  

摘要:<正>美国伊利诺大学(University of Illinois)实验室开发出一种以金属为蚀刻催化剂的砷化镓晶圆蚀刻法,这种蚀刻方法,其制造速度较传统的湿式蚀刻制程来得快、而成本又较干式蚀刻来得低,一旦该制程获得推广,可望有效推进用以生产太阳能砷化镓产品的商业应用技术。

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