首页 期刊 真空科学与技术学报 Spindt阴极制作中剥离层的研究 【正文】

Spindt阴极制作中剥离层的研究

作者:李兴辉 白国栋 李含雁 丁明清 冯进军 廖复疆 中国电子科技集团公司第十二研究所微波电真空器件部级重点实验室 北京100015
spindt阴极   剥离层   选择性腐蚀   水溶性材料   氧化铝  

摘要:在Spindt场发射阴极制作工艺流程中,剥离层对于形成良好的发射尖锥形状至关重要,同时它也是实现阴极阵列中尖锥均匀性的关键因素。本文研究了几种常用的剥离层材料包括金属铜,A1203以及水溶性的NaCl和r%c03。实验表明NaCl和r%c03用作剥离层,可以被去离子水迅速、容易地去除,并同时实现很好的腐蚀选择性。但用这些水溶性材料得到的发射尖锥形状不很规则且表面粗糙,由此也会带来整个阴极阵列上尖锥的不均匀性。使用鸽03作为剥离层则较为理想,可以得到光滑的栅极收口和很好的尖锥阵列。但传统用来腐蚀A1203的热H3P04,对于加热制作的A1203剥离层腐蚀较为困难。尝试了使用基于NaOH的腐蚀液来剥离加热她03层,通过严格的工艺参数控制,如腐蚀液浓度和刻蚀时间,可以制作出质量较好尖锥发射体阵列。

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