杂志简介:《真空电子技术》杂志经新闻出版总署批准,自1959年创刊,国内刊号为11-2485/TN,是一本综合性较强的电子期刊。该刊是一份双月刊,致力于发表电子领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目:综述、空间电推进专辑、理论与设计、工艺研究、整管研制
作者:吴锦雷 刊期:2005年第06期
随着纳米科技的兴起,纳米激光的研究成为了又一个新的重要课题.ZnO纳米微晶有两种结构可以产生随机激光,一是六角柱形蜂窝状微晶结构,二是颗粒粉末状结构,产生的近紫外激光波长是387.5 nm,光泵浦阈值是50 kW/cm2.采用气相输运的催化外延晶体生长过程来制备ZnO纳米线阵列构成的光致纳米激光器,激光波长383 nm,线宽仅为0.3 nm,光泵浦阈值是40 kW/c...
作者:冯进军; 廖复疆; 朱敏; 闫铁昌 刊期:2005年第06期
微波真空电子器件的频率正在向毫米波、亚毫米波甚至太赫兹频率扩展,随着器件频率的提高,高频结构的尺寸越来越小,传统的机械加工方法已经不能满足零部件精度的要求,需要借助微细加工技术.这一类利用微细加工技术,特别是深刻技术,如LIGA,DEM,DXRL、DRIE等,制作的真空器件,已经形成一门新兴的交叉学科,微真空电子学及相应的技术和应用.本文对目前...
刊期:2005年第06期
德国Xtreme Technologies GmbH日前宣称在提高EUV光源的功率输出上超越了其目标,以寻求将甚超紫外线(EUV)光刻引入到芯片制造。
作者:周忠伟; 偰正才; 牛憨笨 刊期:2005年第06期
背光源的成本和性能指标的优劣是决定大尺寸液晶电视竞争力的关键因素,本文对目前大尺寸液晶电视用冷阴极管背光源技术的最新动向作简要介绍,并将之与其它新型背光源技术如平面光源以及发光二极管背光源技术相比较,从而得出目前以冷阴极管作为大尺寸液晶电视背光源仍为主要趋势的结论.
作者:钟国俭; 汪邦金; 沈项东; 王刚; 马钰鹿; 高亚明; 陈羽 刊期:2005年第06期
采用固态放大器直接驱动前向波管的新型放大链与"固态-中功率行波管-前向波管"三级放大链相比较,具有更好的性能指标,可靠性指标也将大大提高,由于不需要灯丝预热,可实现放大链的瞬时开机.文章介绍了一种用固态放大器直接驱动直流工作的S波段前向波管的实验情况和实验数据,对这种新型放大链的技术关键和应用前景进行了分析.
刊期:2005年第06期
法国和瑞士科学家日前开发出一种名为“自动组合结构”的材料制造技术,进而制成新型超大容量的纳米级信息存储材料,每平方厘米的这种材料可存储的信息达到4万亿比特。
作者:王策略; 林福民; 丁耀根 刊期:2005年第06期
对截止波导的滤波特性以及截止波导与TM010模单间隙腔耦合进行了深入研究,在这基础上设计出一个相对带宽5.6%的圆柱重入式单间隙腔加载截止波导滤波器型的L波段宽带速调管输出回路,并总结了截止波导段的长度和金属销钉的位置对输出腔间隙阻抗的影响规律.
作者:刘青宜; 张志峰; 苏展 刊期:2005年第06期
制备了三种不同缓冲层材料(TiO2、Alq3和PBD)修饰ITO的有机电致发光器件,同没有缓冲层修饰的器件相比,亮度和效率都有很大改善.同时通过比较有缓冲层修饰的三个器件的启亮电压和器件的效率,发现TiO2材料修饰的器件的启亮电压最低(为4 V),效率最高,在电流密度为120 mA/cm2情况下电流效率为5 cd/A;Alq3修饰的器件启亮电压次之(为5V),在相同电流密...
作者:范多旺; 马国欣 刊期:2005年第06期
由计算机组态软件控制,可连续实现离子清洁、蒸发镀铝、离子轰击聚合、蒸发镀氧化硅保护膜、蒸发镀MgF2保护膜等工艺过程,主要用于机动车辆照明灯具反光膜镀制.
刊期:2005年第06期
日本日立制作所等日前开始在东京车站试用厚度仅为6mm的电子纸显示器,以验证它作为广告媒体的功徙和效果。
作者:樊会明; 刘柳萍; 赵世柯; 李莉; 张淑君; 苏小保 刊期:2005年第06期
作为卫星通讯系统所用的高增益、高功率微波放大器件,行波管的效率和线性是非常重要的.本文根据卫星通讯的需要,给出了高效率X波段40 W空间行波管的设计,并成功研制出了样管.
作者:查金英; 祝大军; 刘盛纲 刊期:2005年第06期
利用三维MAGIC数值模拟软件对虚阴极振荡器进行研究,在二极管电压450 kv、束流31 kA条件下,得到4.8和7.3 GHz两种频率成分的微波,平均功率达1.22 GW,转化效率为8.7%.
作者:张劲涛; 范玉锋; 雷刚 刊期:2005年第06期
概述了ITO的特性和它在PDP显示中所起的作用.通过大量实验摸索了一套适合实验室制作刻蚀ITO膜的工艺,其中包括涂胶、擦边、曝光、显影、刻蚀等.
作者:朱刚毅 刊期:2005年第06期
作为光学镀膜设备中的新机型--卧式离子辅助电子束蒸发真空镀膜设备,是一种适用于圆柱型、圆锥型等带对称回转轴的工件外表面镀光学膜的真空镀膜设备,它解决了目前箱式光学镀膜机无法镀制这类工件的难题.
作者:郭爱云; 薛亦渝; 朱选敏; 胡小峰 刊期:2005年第06期
试验以Ti2O3,Ti3O5和TiO2作为初始膜料,在ZZS700-6/G型真空镀膜机上采用O2-离子束辅助蒸发制备氧化钛薄膜.用XRD检测方法确定各种膜料和薄膜的相成分,并全面地分析了各种膜料的蒸发特性和薄膜;用分光光度计测量薄膜的透射率,并分析薄膜的光学性能.试验表明,在采用Ti2O3,Ti3O5和TiO2作为蒸发制备氧化钛薄膜时,钛的氧化物中存在Ti3O5固态同一蒸发...