真空

真空杂志 统计源期刊

Vacuum

杂志简介:《真空》杂志经新闻出版总署批准,自1964年创刊,国内刊号为21-1174/TB,是一本综合性较强的工业期刊。该刊是一份双月刊,致力于发表工业领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目:真空应用、真空获得与设备、薄膜、测量与控制、真空冶金与热工、真空技术应用系列讲座、信息

主管单位:中国机械工业集团有限公司;沈阳真空技术研究所有限公司
主办单位:中国机械工业集团有限公司;沈阳真空技术研究所有限公司
国际刊号:1002-0322
国内刊号:21-1174/TB
全年订价:¥ 408.00
创刊时间:1964
所属类别:工业类
发行周期:双月刊
发行地区:辽宁
出版语言:中文
预计审稿时间:1-3个月
综合影响因子:0.46
复合影响因子:1.38
总发文量:1486
总被引量:4411
H指数:21
引用半衰期:6.1875
期刊他引率:0.7813
平均引文率:9.131
  • 溅射功率对硅基哈氏合金薄膜性能的影响

    作者:庞甜甜; 王国栋; 陈长琦; 陈宗武; 张东庆 刊期:2018年第02期

    以硅片为基体,采用直流磁控溅射镀膜方法,制备了不同厚度的耐腐蚀的哈氏合金薄膜。采用SEM、XPS、显微硬度等方法,研究了室温条件下,不同溅射功率的哈氏合金薄膜的表面形貌、化学组成、膜厚以及硬度等性能,分析结果表明:低功率沉积的薄膜由纳米级均匀的球形颗粒构成,表面均匀平整,随着溅射功率的升高,晶粒尺度逐渐长大,表面应力随之增大;薄膜中...

  • 不同工作参数下Ni/Ag双层膜GDOES深度谱的比较

    作者:梁家伟; 林晓琪; 毕焰枫; 冯朗丹; 庄素娜; 韩逸山; 余云鹏; 王江涌 刊期:2018年第02期

    随着射频辉光放电光谱仪在镀层和薄膜深度剖析中的应用逐渐深入,人们对其工作原理、设置参数对测试的影响也越来越关注。本文通过在不同气体工作压强和溅射功率下,对镍/银双层膜样品进行了辉光放电深度剖析的实验,探讨了自偏压与工作压强和溅射功率的关系。实验结果表明,自偏压随工作压强的增加而减小;随着溅射功率的增加,溅射速率随之增加,在特...

  • 高透射深宽截止双通带荧光滤光片设计与PARMS镀制

    作者:赵帅锋; 吕少波; 王瑞生; 姜超; 胡雯雯; 李明华; 穆佳丽 刊期:2018年第02期

    以Nb_2O_5和SiO_2为光学镀膜材料设计了可见光区双通带BP561nm&BP687nm超多层膜系干涉滤光片。采用直接光控和速率控制混合的膜厚监控方案,制造工艺采用OMS Simulator设计并模拟镀膜过程,模拟膜厚误差优于±0.1%,并在PARMS镀膜机上进行镀制。制造光谱结果:双通带滤光片波长定位精度均小于±2nm,峰值透过率高于95%,截止区300-950nm背景优于OD6,完...

  • 钛掺杂氧化钨薄膜结构与电致变色性能研究

    作者:代强; 刘静; 孟政; 汪洪 刊期:2018年第02期

    本文采用直流反应磁控溅射法,在不同氧气分压条件下制备了钛掺杂氧化钨薄膜,结合X射线衍射分析(XRD)、拉曼光谱(Raman)分析、扫描电子显微镜(SEM)表面形貌分析、电化学测试和太阳光波段光谱测试等表征与分析方法,研究了溅射过程中氧气分压变化对薄膜晶体结构、表面形貌、光学性能和电致变色及循环稳定性的影响。结果表明:所制备的薄膜具...

  • 靶基距对杂化离子镀TiCN薄膜结构和性能的影响

    作者:孙国威; 陈泽昊; 李云珂; 张川; 黄美东 刊期:2018年第02期

    以基底与溅射碳靶之间的距离(靶基距)为变量参数,采用杂化离子镀技术在高速钢、硅片以及不锈钢片表面制备Ti CN薄膜。用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、维氏硬度计、XP-2台阶仪分别对薄膜的物相结构、表面形貌、显微硬度、沉积速率进行表征,研究了靶基距对薄膜结构和性能的影响。结果表明,所制备的Ti CN薄膜具有晶体结构,膜层沿Ti CN(220)晶...

  • 中国科协 教育部 科技部 卫生计生委 中科院 工程院 自然科学基金会印发《发表学术论文“五不准”》发表学术论文“五不准”

    刊期:2018年第02期

    1.不准由"第三方"。科技工作者应自己完成论文撰写,坚决抵制"第三方"提供服务。2.不准由"第三方"。科技工作者应学习、掌握学术期刊投稿程序,亲自完成提交论文、回应评审意见的全过程,坚决抵制"第三方"提供服务。3.不准由"第三方"对论文内容进行修改。论文作者委托"第三方"进行论文语言润色,

  • 基于真空镀膜的太阳能光热技术专业英语教学改革

    作者:杨林林; 杜广煜; 马瑾; 李国浩 刊期:2018年第02期

    目前国内太阳能光热技术行业急需具有外语交流能力的专业技术人员,本文分析了太阳能光热技术专业外语教学的现状和存在的问题,提出了相应的改革措施,以培养出掌握听、说、读、写、译等综合技能的现代型人才,推动太阳能光热技术行业的发展并提升其竞争能力。

  • 高功率脉冲磁控溅射技术的研究及应用

    作者:马安博 刊期:2018年第02期

    高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)是最新发展起来并受到广泛关注的一种高离化率物理气相沉积技术。本文首先从高功率脉冲磁控溅射技术原理与特点出发,然后简单介绍了高功率脉冲磁控溅射技术发展过程及目前研究现状,最后重点分析了高功率脉冲磁控溅射技术目前存在的问题及未来发展趋势。

  • 脉冲偏压对磁控溅射制备ITO薄膜性能的影响

    作者:王昆仑; 辛艳青 刊期:2018年第02期

    室温下,利用脉冲偏压辅助射频磁控溅射方法,在玻璃衬底上制备了铟锡氧化物(ITO)薄膜。研究了当占空比为20%时,脉冲偏压大小对薄膜结构、形貌、光电特性的影响。实验结果表明:当偏压为40V时,薄膜(400)方向晶粒尺寸最大,为60.6nm,此时薄膜结晶程度最好,其电阻率和霍尔迁移率分别为3.78×10~(-4)Ω·cm、33.22 cm2·V~(-1)·s~(-1),可见光波...

  • 《真空》杂志顺利通过国家新闻出版广电总局第一批学术期刊认定

    刊期:2018年第02期

    为严格学术期刊出版资质,优化学术期刊出版环境,促进学术期刊健康发展,根据新闻出版广电总局《关于规范学术期刊出版秩序促进学术期刊健康发展的通知》和《关于开展学术期刊认定及清理工作的通知》,2014年国家新闻出版广电总局组织开展了学术期刊认定工作。经过各省、区、市新闻出版广电局,中央期刊主管单位初审上报,总局组织有关专家严格...

  • 便携式动态相对法真空标准装置简介

    刊期:2018年第02期

    便携式动态相对法真空标准装置(如图所示)为沈阳真空技术研究所、国家真空设备质量监督检验中心研制的现场校准设备,良好的解决了真空设备连续生产无法送检校准、真空计送检过程易损等问题。为用户带来更大效益与便利。主要用途:用于对现场的各类真空计的校准。装置结构紧凑便于携带,是理想的现场校准装置。

  • 动态相对法真空标准装置简介

    刊期:2018年第02期

    动态相对法真空标准装置(如图所示)为沈阳真空技术研究所、国家真空设备质量监督检验中心研制,主要技术指标均达到国内先进水平,并通过了中国计量科学研究院考核,具有校准范围宽,气体动平衡稳定性好等特点。

  • 真空领域又一部大型工具书——《真空工程设计》出版发行

    刊期:2018年第02期

    由航天科技集团兰州空间技术物理研究所刘玉魁任主编,杨建斌、肖祥正为副主编,闫格、石芳录、柏树、魏迎春、刘伟成、颜昌林、高俊旺、张英明参加编写的《真空工程设计》一书已由化学工业出版社出版发行。《真空工程设计》是近十几年来国内真空领域又一部大型工具书,内容丰富,资料新颖,文字精炼,信息量大,全面系统地反映出现代真空工程设计的新...

  • 普旭上海总部乔迁新址 喜迎发展新篇章

    刊期:2018年第02期

    普旭真空设备国际贸易(上海)有限公司(以下简称"普旭")自2001年在上海成立开始,一直致力于为本地的客户提供高质量的销售支持及服务,并也已在北京、成都、武汉和广州设立了办事处。为了能进一步更好的发展,以及提升服务与支持水平,普旭上海总部也已于2017年9月22日乔迁至全新的办公大楼,

  • 国家真空设备质量监督检验中心简介

    刊期:2018年第02期

    国家真空设备质量监督检验中心成立于1987年,1992年10月经国家技术监督局认可并授权,1998年首次并于2003年、2008年、2011年、2014年通过中国合格评定国家认可委员会、中国国家认证认可监督管理委员会和中国机械工业联合会三合一复评审,是国家认可的第三方检验机构(即是经国家质量检验检疫总局授权的第三方质检机构),二十多年来中心多次完成国...