摘要：钨由于高熔点、低溅射率等优点而被广泛的认为是最有希望的核聚变装置面对等离子体材料。然而考虑到等离子体约束和边界气体再循环，钨涂层面对等离子体材料在真空中的出气性能的研究是十分重要的。研究结果显示钨涂层主要出气种类为H2，H2O，O2，CO／N2和CO2。在300℃、经过4小时的烘烤，涂层出气率有明显的降低，特别是H2O和CO／N2；继续烘烤对涂层出气率改善效果不显著，因此真空等离子体喷涂钨涂层在用作面对等离子体材料时，仍需要烘烤、放电清洗等壁处理手段。

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