真空杂志 统计源期刊

原子层沉积技术及其在半导体中的应用

作者：申灿; 刘雄英; 黄光周 刊期：2006年第04期

首先简述原子层沉积（ALD）技术的发展背景，通过分析ALD的互补性和自限制性等工艺基础，介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势，着重列举ALD在半导体互连技术、高k电介质等方面的应用。同时指出了目前ALD工艺中存在的主要问题。

离子束辅助磁控溅射低温沉积ITO透明导电薄膜的研究

作者：望咏林; 颜悦; 沈玫; 贺会权; 纪建超; 张官理 刊期：2006年第04期

本文对离子柬辅助磁控溅射低温沉积的ITO薄膜进行了研究，重点考察了辅助离子束能量对ITO薄膜的光电性能和晶体结构的影响。结果表明：当Ar／O2辅助离子束能量为900eV左右时能够有效改善ITO薄膜的光电性能，在从非晶到多晶的转变过程中ITO薄膜具有较低的电阻率。在聚碳酸酯（PC）基片上制备了平均可见光透过率81．0％、电阻率为5．668×10^-4ohm ...

太阳能集热板镀膜及其设备

作者：魏海波; 孙清; 张晶宇; 王庆伟 刊期：2006年第04期

介绍了采用真空磁控溅射的方法在太阳能集热板上镀选择性吸收膜，从而使平板太阳能热水器的热效率得到提高；集热板的αs=0．91～0．96；ε≤0．1。并介绍了镀膜设备的性能。

磁控反应溅射TiO2薄膜的实验研究

作者：常学森; 巴德纯; 闻立时; 刘坤; 李飞; 张健 刊期：2006年第04期

应用直流和中频交流程序自动控制磁控溅射设备，利用金属Ti靶、纯Fe靶制备出了有一定厚度的质量较好的不同氧流量的Fe掺杂TiO2薄膜，TiO2薄膜被沉积在玻璃基底上。薄膜的制备用程序控制。通过在TiO2薄膜中形成一定的结构，并利用各种分析测试手段对其性能进行了测试，初步探讨了不同氧流量对TiO2薄膜的影响。实验表明程序自动控制不同氧流量Fe掺...

新书预告

作者：张志军 刊期：2006年第04期

铝诱导非晶硅薄膜快速低温晶化研究

作者：徐慢; 夏冬林; 杨晟; 赵修建 刊期：2006年第04期

采用金属铝诱导晶化非晶硅薄膜的方法制备多晶硅薄膜。研究了不同的退火温度对a-Si薄膜晶化的影响，采用XRD，Raman，SEM等测试手段分析了实验结果。实验结果发现非晶硅薄膜在400℃下退火20min薄膜仍为非晶结构（a-Si），在450℃下退火20min后非晶硅开始晶化且随着温度的升高，且晶化程度加强。

《真空科学技术》丛书编委会会议在兰州召开

作者：谈治信 刊期：2006年第04期

涡旋真空泵的设计与操作

作者：杨广衍; 滕普光; 张鹏; 郭海洋 刊期：2006年第04期

本文总结了涡旋真空泵的工作原理、设计原则与经验、制造要点和使用注意事项；介绍了涡旋真空泵的设计与加工方法；讨论了涡旋盘的加工、密封的设计与选择、间隙的确定以及泵体的动平衡等问题并阐明这些问题是影响泵性能指标的几个重要因素；同时指出了涡旋真空泵使用的几个注意事项。

东北大学第三期《真空技术》培训班在沈阳圆满结束

刊期：2006年第04期

真空高压器件脉冲老炼台的研制

作者：米伦 刊期：2006年第04期

真空高压器件脉冲老炼台由可调直流高压电源、储能器、高压脉冲变压器、高压开关、控制器、真空计、存贮示波器、限流电阻箱、极性转换器、高压击穿判别及高压脉冲分压器等构成，在线测量真空高压器件内的真空度和高压脉冲电压幅度、检测高压击穿状况，高压脉冲电压幅度连续可调、限流电阻和脉冲正负极性自动转换，性能稳定可靠。

第三届真空获得技术培训班通知

刊期：2006年第04期

中性束注入器真空系统设计

作者：谢远来; 胡纯栋; 欧阳峥嵘; 王绍虎 刊期：2006年第04期

中性束注入器（NBI）真空系统的性能对束传输效率以及整个束线内相关部件的使用寿命与使用安全影响极大。本文结合中性束注入器对真空系统的要求，对真空室的结构选择及气源分布进行了分析并对各气源的气量大小进行了计算。为NBI设计了一套以4．2K液氦低温冷凝泵为真空主抽泵并配以涡轮分子泵机组的抽气系统，采用此真空系统的NBI系统具有良好的...

EACVD金刚石膜热丝温度的单片机测控

作者：褚向前; 朱武; 陈长琦 刊期：2006年第04期

在EACVD金刚石膜生长过程中，衬底温度、热丝温度、热丝电流和气源流量等是其重要的工艺参数。鉴于手动控制的不精确，采用了单片机MSP430控制热丝温度，对其他工艺参数进行了监测。介绍了计算机测控系统硬件组成和软件实现。采用模糊PID控制后，热丝温度控制精度为2U，生长速率达到10μm／h以上。实验结果表明，所研制的测控系统运行可靠，使用...

合肥光源真空控制系统

作者：刘功发; 王勇; 王研科; 王季刚; 宣科; 鲍循; 李川 刊期：2006年第04期

合肥光源（HLS）是第二代专用同步辐射光源，由200MeV直线加速器、输运线和800MeV电子储存环组成。真空控制系统是基于EPICS（Experimental Physicsand Industrial Control System）的分布式控制系统，3台10C分别控制储存环上的7台Varian真空规控制器、直线加速器上的15台溅射离子泵电源控制器和输运线上16台溅射离子泵的电源控制器。采用Channe...

中国真空学会2006年学术会议征文通知

刊期：2006年第04期