真空杂志 统计源期刊

新型场致发射显示器件的研究现状与展望

作者：王金婵; 杨杨; 张晓兵; 雷威; 王琦龙; 张宇宁 刊期：2005年第03期

场致发射显示器(Field Emission Display)继承了传统CRT的优良显示性能,是一种具有广阔应用前景的平板显示器件.本文介绍了FED的发展近况,重点是碳纳米管阴极场致发射显示,并对normal-gate、under-gate三极结构以及double-gate四极结构等器件结构特点进行了讨论.

真空卷绕镀膜技术及设备的现状与发展

作者：梁勇 刊期：2005年第03期

综述了真空卷绕镀膜技术的现状和发展、真空卷绕镀膜技术的应用领域、现有真空卷绕镀膜设备的应用分类及结构分类、真空卷绕镀膜设备典型的结构组成及设备设计的一些关键要素.

形核工艺对金刚石膜形貌和电阻率的影响

作者：廖晓明; 冉均国; 苟立; 苏葆辉; 张进; 何子博 刊期：2005年第03期

金刚石薄膜电阻率的高低是薄膜绝缘性能优劣的直观反映,也是影响辐射剂量计器件性能的重要因素.针对目前形核工艺与电阻率的关系还不十分清楚的问题.本文研究了微波等离子体形核阶段工艺参数如基片位置、微波功率、甲烷浓度的变化对金刚石薄膜的表面形貌和电阻率的影响.结果表明微波等离子体形核工艺参数对金刚石薄膜的电阻率和表面形貌有显著影...

氟化类金刚石膜结构、性能及应用

作者：王立达; 刘贵昌; 邓新绿 刊期：2005年第03期

氟化类金刚石膜是基于传统类金刚石膜的基础上发展起来的一种改性材料,该膜具有许多良好的性能,包括疏水性能、电学性能、光学性能、机械性能、热稳定性以及生物相容性,因此引起了人们的极大关注.本文介绍了氟化类金刚石膜的结构、性能、应用领域和发展趋势.

ZnO薄膜的塞贝克效应

作者：李丽; 王万录; 廖克俊; 陈秀东; 杨丰帆; 曹春兰; 张瑞俭 刊期：2005年第03期

采用直流反应磁控溅射方法在玻璃基底上成功地沉积了C轴取向性能良好的ZnO薄膜.本文研究了C轴取向性良好的ZnO薄膜在光学方面的一些性质以及ZnO薄膜的塞贝克效应,并从理论上进行了分析.

SiC—C／SiC复合材料进行硼离子注入的工艺研究

作者：马国佳; 张华芳; 武洪臣; 蒋艳莉; 彭丽平 刊期：2005年第03期

叙述采用等离子体源离子注入法(PSII),对带有SiC涂层的C纤维增强SiC基(SiC-C/SiC)复合材料进行硼离子注入的工艺研究.通过朗缪尔单探针测量了等离子的密度,对注入剂量进行了估算.对复合材料采用加金属网的工艺,来提高离子注入能量.用俄歇电子能谱检测分析了加金属网与未加金属网样品硼离子的成分深度分布.证明了加金属网工艺可以有效改善不良导...

偏心旋转移动平面磁控溅射在ITO玻璃生产中的应用与探讨

作者：黄福民; 王朴 刊期：2005年第03期

直流平面磁控溅射法是生产ITO玻璃最常用的工艺,但是常规的固定磁控方法只有20%～25%的靶材利用率.为了尽可能提高靶材利用率,我们在原来的固定磁场基础上进行了偏心轴旋转的平面磁场改造,改造后的靶材利用率达到了60%～70%,经过两年多的运行,证明改造是相当成功的.本文阐述了偏心旋转移动平面磁控的具体方法及应该注意的几个问题.

第八届国际真空展览会将于2005年10月13～16日在上海举办

刊期：2005年第03期

中国真空学会与中国通用机械真空设备行业协会已连续成功地举办了七届国际真空展示会，展会以其规模大、档次高、效果好、影响广在参展商及用户中树立了良好的形象。该展会不仅是对我国真空技术最新成果的大检阅，而且已成为了解国内外真空最新技术和产品发展的窗口；成为促进国内外企业交流与合作的渠道；成为真空企业利用名展效应展示自己、树...

迁址通知

刊期：2005年第03期

中国真空学会真空冶金与表面工程学术会议征文通知

刊期：2005年第03期

关于举办真空技术继续教育培训班的通知

刊期：2005年第03期

东北大学第二期《真空技术》培训班招生通知

刊期：2005年第03期

中国真空学会2005年6～12月活动计划

刊期：2005年第03期

《真空技术》丛书开始编写

作者：谈治信 刊期：2005年第03期

新版《真空设计手册》（第3版）正式出版

作者：谈治信 刊期：2005年第03期