摘要：背景：口腔印模消毒的方法较多，有紫外线消毒法，喷涂、浸泡消毒法，氩等离子流及射频辉光放电对氩气电离消毒法等，目前国内外尚缺乏口腔含漱液含漱后对口腔印模消毒效果的研究。 目的：观察含漱西吡氯铵和稳定性二氧化氯含漱液后对所取口腔印模上细菌及真菌的杀灭效果。 方法：将100例患者抽签随机分为西吡氯铵含漱液组和稳定性二氧化氯含漱液组，分别做自身对照试验，嘱两组患者先用清水漱口1 min，吐出后用藻酸盐印模材取模，取出模型后用无菌棉拭子采样，放入中和剂中送实验室做细菌及真菌培养。1 h后再分别用各组含漱液漱口1 min，取印模后在印模相同位置用无菌棉拭子采样，同样做细菌及真菌培养，记录含漱前后培养出菌落的个数，观察用含漱液漱口后取模对所取印模上细菌及真菌的杀灭效果。 结果与结论：两组含漱前口腔细菌及真菌数量比较差异无显著性意义。两组含漱后取模模型上的细菌及真菌数量均明显低于含漱前（P 〈0.001）。两组含漱未出现任何不良反应，患者主观感觉含漱后口腔清爽，比较舒适。试验证实取模前用含漱液漱口可有效减少藻酸盐印模上细菌及真菌的数量，有效防止医生和患者之间的交叉感染。

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