首页 期刊 中国陶瓷工业 可见光及近红外光波段减反射膜的设计与制备 【正文】

可见光及近红外光波段减反射膜的设计与制备

作者:寇立选; 郭兴忠; 蒋文山; 吴兰; 刘盛浦; 杨海涛 浙江博达光电有限公司; 浙江杭州311305; 浙江大学浙江加州国际纳米技术研究院; 浙江杭州310058; 浙江博达光电材料与器件研究院; 浙江杭州311305
光学薄膜   减反射膜   宽波段   离子源辅助   电子束蒸发  

摘要:在可见光及近红外光波段(400-1100nm),选用Ti3O5、SiO2、MgF2三种镀膜材料,构成10层膜系结构,利用Willey减反射膜经验公式,计算得到理论的平均反射率为0.46%,其优化后为0.5%。进一步优化膜层结构、离子源辅助镀膜和电子束蒸发装置,在低折射率基板K9玻璃表面制备10层结构的超宽带减反射膜。实测结果表明,减反射膜在400-1100nm波段的平均反射率为0.56%,满足宽波段增透膜的高透过性需求;环测表明:薄膜牢固度、机械强度、抗恶劣环境性能优越,连续生产的光学及表面性能稳定,达到民用、军用影像系统对于可见至近红外波段高透过性的要求。

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