首页 期刊 中国科学院大学学报 氮化镓基材料的合成研究进展 【正文】

氮化镓基材料的合成研究进展

作者:彭必先; 钱海生; 岳军; 陈丽娟; 王崇臣; 张丽娟 中国科学院理化技术研究所; 北京; 100101; 中国科学技术大学化学与材料科学学院; 合肥; 230026; 北京化工大学理学院应用化学系; 北京; 100029
氮化镓   半导体   制备方法   应用  

摘要:氮化镓是直接带隙半导体材料,在室温下有很宽的带隙(3.39eV).它在光电子器件如蓝光、紫外、紫光等光发射二极管和激光二极管方面有着重要的应用.本文系统介绍了氮化镓的各种制备方法,对其结构和性能关系的研究,揭示了它在半导体领域广泛且重要的应用前景.

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