摘要：磁控溅射是镀膜技术中最突出的成就之一。它以溅射率高、基材温度低、膜基结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点，成为微电子、光学薄膜和材料表面镀膜，特别是大面积对均匀性要求苛刻的建筑镀膜玻璃、柔性基材卷绕镀等连续镀膜工业领域的首选方案。

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