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配向膜材料与面残影的关联性研究

作者:刘晓那 宋勇志 徐长健 周波 马国靖 陈松飞 袁剑峰 林承武 邵喜斌 北京京东方显示技术有限公司Cell工艺开发部 北京100176
配向膜   电压保持率   残余电流   残影  

摘要:利用mini-cell作为评价平台,从配向膜材料自身特性角度,对配向膜材料与面残影之间的关联性进行了综合研究.一方面,配向膜材料自身优异的稳定性有助于维持电压保持率(VHR);另一方面,配向膜材料自身的低电阻率特性有助于存储电荷的释放,利于实现较低的残余电流(RDC).而当配向膜材料的RDC和高低温间VHR变化值同时处于较低水平时,可以获得面残影水平较低的TFT-LCD模块.因此,利用mini-cell对配向膜材料进行评估,通过比较RDC以及△VHR数值,可以间接实现对TFT-LCD的残影结果评估,为实际生产中产品残影的改善提供了基础理论指导,具有重要的指导性作用.

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