【免费】轨道分子屏极高真空实验室设计技术研究-发表之家

轨道分子屏极高真空实验室设计技术研究

作者：达道安; 崔志云; 杨亚天兰州物理研究所; 甘肃; 730000; 河北大学; 河北; 保定; 071000; 福建师范大学; 物理系; 福建; 福州; 350007

极高真空轨道分子屏材料加工

摘要：给出了一种新型的近地轨道极高真空分子屏实验室设计.作者计算了可变翼分子屏周围大气分子的入射及散射、分子屏材料放气在屏内的分子数流密度.通过调整分子屏的翼角,分子屏内的压力可以达到10-12Pa.计算结果指出:在近地轨道选择合适的分子屏参数,可以在极高真空环境下加工超纯材料.

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