首页 期刊 压电与声光 BNST薄膜电容的制备及电性能研究 【正文】

BNST薄膜电容的制备及电性能研究

作者:莫尚军 张继华 杨传仁 陈宏伟 余为国 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 四川成都610054
微结构   介电性能   介温系数   漏电流密度  

摘要:采用磁控溅射法在覆釉95-Al2O3陶瓷基片上制备了BaO-Nd2O2-Sm2O3-TiO2(BNST)微波介质薄膜为介质的金属-绝缘体-金属结构电容器。原子力显微镜(AFM)显示在800℃退火0.5h后的BNST薄膜晶粒形状完整;XRD图谱显示薄膜化后BNST晶体面间距减小;电性能测试表明,1MHz频率下BNST薄膜介电常数为77.2,介电损耗为0.25%,-55~125℃范围内介温系数为-51.8×10^-6/℃,30V偏压下漏电流密度为3.28×10^-8A/cm^2。

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