首页 期刊 现代电子技术 CCD纵向抗晕结构设计与优化 【正文】

CCD纵向抗晕结构设计与优化

作者:武利翻 西安邮电学院; 陕西西安710121
ccd   光晕   纵向抗晕   器件仿真  

摘要:为了抑制CCD图像传感器在强光照射时出现光晕和弥散现象,建立了CCD纵向抗晕结构模型,运用半导体器件数值模拟软件MEDICI,对建立的纵向抗晕CCD器件结构进行数值计算。结果表明:1PW层杂质浓度越低,电势越高,则电子势垒越低,则导入衬底的过量载流子越多,对应的抗晕能力越强。得到了CCD纵向抗晕结构的一种优化结构。

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

学术咨询 免费咨询 杂志订阅