摘要：采用V和SiO2靶通过反应溅射方法制备了一系列具有不同SiO2和VN调制层厚的VN／SiO2纳米多层膜．利用X射线衍射、X射线能量色散谱、高分辨电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能．结果表明：在Ar，N2混和气体中，射频反应溅射的SiO2薄膜不会渗氮．单层膜时以非晶态存在的SiO2，当其厚度小于1nm时，在多层膜中因VN晶体层的模板效应被强制晶化，并与VN层形成共格外延生长．相应地，多层膜的硬度得到明显提高，最高硬度达34GPa．随SiO2层厚度的进一步增加，SiO2层逐渐转变为非晶态，破坏了与VN层的共格外延生长结构，多层膜硬度也随之降低．VN调制层的改变对多层膜的生长结构和力学性能也有影响，但并不明显．

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