首页 期刊 物理学报 高能等离子体辅助CVD法新型纳米碳膜的制备及分析 【正文】

高能等离子体辅助CVD法新型纳米碳膜的制备及分析

作者:杨武保; 范松华; 戈敏; 张谷令; 沈曾民; 杨思泽 中国石油大学机电学院; 北京102249; 北京化工大学碳纤维研究所; 北京100029; 中国科学院物理研究所; 北京100080
高能等离子体   cvd法   纳米碳膜   衬底材料  

摘要:利用自制高能等离子体辅助化学气相沉积设备在1Cr18Ni9Ti衬底上,在离子能量2keV、工作压力2Pa、工作气氛为CH4/H2=10%的工艺条件下得到了一种硬度高、导电性能良好、可能具有碳链结构的新型碳膜.工艺研究结果表明,衬底材料对制备该新型纳米碳膜具有关键作用,离子能量、工作压力及气氛等工艺因素也具有重要作用.原子力显微镜分析结果表明,该薄膜晶粒尺寸小于100nm,薄膜光滑、致密、均匀.拉曼光谱分析显示,该薄膜的拉曼光谱特征为中心峰在1580cm^-1附近、显著宽化的单一峰.欧姆计测量表明该薄膜的薄膜电阻为1.6×10^4Ω/cm^2.利用纳米力学探针测得该纳米碳膜的显微硬度为21.38GPa。体弹性模量为420.65GPa.

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