首页 期刊 物理学报 Mg掺杂对AlGaN薄膜特性的影响 【正文】

Mg掺杂对AlGaN薄膜特性的影响

作者:冯倩; 王峰祥; 郝跃 西安电子科技大学技术物理学院,西安710071; 西安电子科技大学微电子研究所,西安710071
拉曼频移   gan薄膜   掺杂剂   低频   mocvd  

摘要:利用高精度x射线衍射和拉曼散射光谱,对MOCVD生长的不同Mg掺杂量的AlGaN薄膜的c轴晶格常数、摇摆曲线和拉曼频移进行测量发现:当Mg掺杂剂量较小时,E2模式向低频方向漂移表明张力应力有所增加,但是摇摆曲线和A1(LO)模式半高宽减小表明薄膜质量有所提高;随着Mg掺杂剂量的增加,E2模式反向漂移表明此时薄膜中存在压力应力,同时薄膜质量有所下降.最后根据拉曼频移和应力改变进行拟合得出相应的线性表达式为Aa=-0.298+0.562·ΔE.

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