首页 期刊 物理学报 SiC衬底上外延GaN:Mg材料特性研究 【正文】

SiC衬底上外延GaN:Mg材料特性研究

作者:冯倩; 郝跃; 张晓菊; 刘玉龙 西安电子科技大学技术物理学院,西安710071; 西安电子科技大学微电子研究所,西安710071; 中国科学院物理研究所光学开放实验室,北京100080
碳化硅衬底   扫描电子显微镜   拉曼散射光谱   光致发光谱   化合物半导体  

摘要:利用扫描电子显微镜、拉曼散射光谱和光致发光谱对在SiC衬底上采用MOCVD异质外延的GaN:Mg薄膜特性进行研究发现:除了一部分Mg原子替代Ga原子呈现受主性外,大部分Mg原子以间隙原子状态(Mgi)存在,并且在缺陷或者位错处大量聚集引起薄膜张力应力减小,薄膜在降温过程中由于应力不均匀会在部分区域内出现大量的裂纹;Mg的掺杂会加剧GaN无序化程度,致使薄膜质量变差;而室温下的PL谱测量表明蓝带发光由DAP(深施主—浅受主)复合引起,其中D为MgGa VN,A为MgGa。

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